[实用新型]一种防护工具

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种适用于在维护化学气相沉积设备时保护静电吸盘的防护工具。

背景技术

为克服传统的化学气相沉积设备中采用机械方式固定晶圆进行刻蚀所造成的损坏晶圆和刻蚀不均匀等问题，现有的化学气相沉积设备通常使用静电吸盘(Electrostatic Chuck；ESC)技术固定晶圆进行刻蚀，另外，为避免由于温度不均所造成的薄膜沉积不均的现象，在静电吸般的表面设置有细微的氦气通道，在晶圆背面使用了氦气(He)冷却技术。上述氦气除用作冷却晶圆外，还可用来反应晶圆与静电吸盘之间是否接触良好，当氦气背压过大时，化学气相沉积设备就会产生报警提示晶圆与静电吸盘之间的接触有问题。

在化学气相沉积设备工作一段时间后会对其进行检修维护，在维护的过程中会产生微尘颗粒掉落在静电吸盘上面或者维护使用的湿布会掉落在静电吸盘上面，导致静电吸盘被污染；另外，在维护过程中可能会碰撞到静电吸盘上，损坏静电吸盘表面的陶瓷通道。

发明内容

根据现有技术中存在的上述问题，现提供一种可以在维护化学气相沉积设备时，避免静电吸盘被湿布或微尘颗粒污染，以及避免静电吸盘表面的陶瓷通道遭受碰撞而损坏的防护工具。本实用新型采用如下技术方案：

一种防护工具，适用于在维护化学气相沉积设备时保护静电吸盘，所述化学气相沉积设备包括静电吸盘基座，所述静电吸盘设置于所述静电吸盘基座内，所述静电吸盘基座具有向上的圆形的开口；

所述防护工具包括一圆盘状的盖体，所述盖体包括至少一个定位结构，用以扣合于所述静电吸盘基座上并封盖所述开口。

较佳的，上述防护工具中，所述盖体包括：

一与所述开口形状适配的盖板，所述盖板包括背向所述开口的正面和朝向所述开口的反面；

环形凸缘，垂直向下的环设于所述盖板的反面的边缘处；

于所述盖体封盖所述开口时，所述环形凸缘接触所述开口。

较佳的，上述防护工具中，所述定位结构包括：

均布于所述开口上且垂直向上的定位销；

均布于所述环形凸缘上且位置与所述定位销对应的定位孔；

于所述盖体封盖所述开口时，所述定位销伸入对应的所述定位孔中。

较佳的，上述防护工具中，所述定位销设置有两个。

较佳的，上述防护工具中，所述盖板由透明材质制成。

较佳的，上述防护工具中，所述盖板上设置有刻度尺。

较佳的，上述防护工具中，所述刻度尺设置于所述盖板的所述正面。

较佳的，上述防护工具中，所述刻度尺设置于所述盖板的所述反面。

较佳的，上述防护工具中，所述刻度尺为十字形坐标系，所述十字形坐标系的原点设置于所述盖板的圆心。

较佳的，上述防护工具中，所述盖体由工程塑料制成。

上述技术方案的有益效果是：上述防护工具可以在对化学气相沉积设备进行维护时，可以全面覆盖静电吸盘表面，有效避免在维护过程中损坏或污染静电吸盘，提高维护效率。

附图说明

图1是本实用新型的较佳的实施例中，一种防护工具的结构示意图；

图2是本实用新型的较佳的实施例中，盖体的反面的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为本实用新型的限定。

本实用新型的较佳的实施例中，如图1和图2所示，一种防护工具，适用于在维护化学气相沉积设备时保护静电吸盘1，化学气相沉积设备包括静电吸盘基座2，静电吸盘1设置于静电吸盘基座2内，静电吸盘基座2具有向上的圆形的开口21，并且静电吸盘1的上端面高于静电吸盘基座2的开口21；

防护工具包括一圆盘状的盖体3，盖体3包括至少一个定位结构，用以扣合于静电吸盘基座2上并封盖开口21。

上述技术方案中，防护工具包括一个直径与静电吸盘基座2的直径相等的盖体3，在对化学气相沉积设备进行维护时，将盖体3封盖在静电吸盘基座2上，盖体3即可完全覆盖静电吸盘1，可避免在维护的过程中会产生微尘颗粒掉落在静电吸盘1上面或者维护使用的湿布掉落在静电吸盘1上面，导致静电吸盘1被污染，同时也可避免工作人员在维护化学气相沉积设备的过程中碰撞到静电吸盘1上，损坏静电吸盘1表面的陶瓷通道。

本实用新型的较佳的实施例中，盖体3包括：

一与开口21形状适配的盖板31，盖板31包括背向开口21的正面和朝向开口21的反面；