[实用新型]一种柔片稳定对位装置

权利要求书

1.一种柔片稳定对位装置，其特征在于，包括：

用于吸取固定柔片的下吸附真空平台；

设置在所述下吸附真空平台上部的上吸附真空平台；

设置在所述下吸附真空平台上用于对柔片进行对位的对位机构；

用于给所述下吸附真空平台和所述上吸附真空平台提供真空吸附力的强弱真空系统；

与所述上吸附真空平台连接用于驱动上吸附真空平台竖直运动的贴近电缸机构；以及

与所述贴近电缸机构连接用于带动贴近电缸机构水平运动的伺服滑台机构。

2.根据权利要求1所述的柔片稳定对位装置，其特征在于，所述贴近电缸机构设置在所述上吸附真空平台的上部，所述伺服滑台机构设置在所述贴近电缸机构的上部。

3.根据权利要求2所述的柔片稳定对位装置，其特征在于，所述伺服滑台机构包括：安装板，设置在所述安装板上的直线模组，以及设置在所述直线模组的滑块上的连接板；所述贴近电缸机构包括：与所述连接板连接的挂臂，以及设置在所述挂臂上的贴近电缸。

4.根据权利要求3所述的柔片稳定对位装置，其特征在于，所述对位机构包括：滑动设置在所述下吸附真空平台上的对位块，以及固定设置在所述下吸附真空平台上用于推动所述对位块运动对柔片进行对位的对位气缸。

5.根据权利要求4所述的柔片稳定对位装置，其特征在于，所述强弱真空系统包括：电磁阀组、真空减压阀、真空压力传感器以及PLC系统，所述PLC系统控制所述电磁阀开闭进行真空切换。