[实用新型]一种柔片稳定对位装置有效

专利信息
申请号: 201720750124.0 申请日: 2017-06-26
公开(公告)号: CN207078773U 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: 周非;方甲兵;周国平 申请(专利权)人: 深圳市九天中创自动化设备有限公司
主分类号: B65H9/10 分类号: B65H9/10;B65H5/10
代理公司: 深圳市道臻知识产权代理有限公司44360 代理人: 陈琳
地址: 518000 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 稳定 对位 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及对位装置技术领域,尤其涉及一种柔片稳定对位装置。

背景技术

随着平板显示行业技术的大幅度发展和使用,与之相关的偏光片、OCA(光学胶)、sensor(TP)等材料越来越轻薄,贴片、贴合领域生产精度、品质却越来越高,迫切需要对偏光片、OCA、sensor柔性材料生产过程中上料的精度稳定可靠,为后续的撕膜、对位、贴片贴合提供可靠保障。传统偏光片、OCA、sensor等普遍很厚很硬,甚至达到0.2mm以上,传统的机械对位方式普遍采用单一的对位气缸驱动对位板进行对位,已经具有很大的局限性,目前主流的偏光片、OCA、sensor等已经非常薄,去掉保护膜厚度甚至只有0.07mm,例如在贴片贴合领域,采用传统的机械对位方式已经完全达不到稳定生产要求。

因此,现有技术还有待于改进和发展。

实用新型内容

鉴于上述现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种柔片稳定对位装置,从而能有效克服柔片对位时弯曲变形导致的对位精度不良和对位时由于惯性引起的位置漂移现象,满足目前及未来贴片贴合领域柔性材料稳定机械对位的需求。

本实用新型的技术方案如下:

本实用新型提供一种柔片稳定对位装置,包括:用于吸取固定柔片的下吸附真空平台;设置在所述下吸附真空平台上部的上吸附真空平台;设置在所述下吸附真空平台上用于对柔片进行对位的对位机构;用于给所述下吸附真空平台和所述上吸附真空平台提供真空吸附力的强弱真空系统;与所述上吸附真空平台连接用于驱动上吸附真空平台竖直运动的贴近电缸机构;以及与所述贴近电缸机构连接用于带动贴近电缸机构水平运动的伺服滑台机构。

所述的柔片稳定对位装置,其中,所述贴近电缸机构设置在所述上吸附真空平台的上部,所述伺服滑台机构设置在所述贴近电缸机构的上部。

所述的柔片稳定对位装置,其中,所述伺服滑台机构包括:安装板,设置在所述安装板上的直线模组,以及设置在所述直线模组的滑块上的连接板;所述贴近电缸机构包括:与所述连接板连接的挂臂,以及设置在所述挂臂上的贴近电缸。

所述的柔片稳定对位装置,其中,所述对位机构包括:滑动设置在所述下吸附真空平台上的对位块,以及固定设置在所述下吸附真空平台上用于推动所述对位块运动对柔片进行对位的对位气缸。

所述的柔片稳定对位装置,其中,所述强弱真空系统包括:电磁阀组、真空减压阀、真空压力传感器以及PLC系统,所述PLC系统控制所述电磁阀开闭进行真空切换。

本实用新型的有益效果是:本实用新型柔片稳定对位装置,通过采用贴近电缸机构克服了柔片在机械对位时柔片弯曲变形导致的位置不稳定,通过强弱真空系统调节下吸附真空平台的真空吸附力,克服了机械对位时柔片的惯性位置漂移,能够显著提高贴片贴合等装配的生产精度、良率和稳定性。

附图说明

图1是本实用新型柔片稳定对位装置的结构示意图。

图2是本实用新型柔片稳定对位装置的局部结构示意图。

图3是本实用新型柔片稳定对位装置的另一局部结构示意图。

具体实施方式

本实用新型提供一种柔片稳定对位装置,为使本实用新型的目的、技术方案及效果更加清楚、明确,以下参照附图并举实施例对本实用新型进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

本实用新型较佳实施例的柔片稳定对位装置,即柔片的机械稳定对位装置,如图1所示,其包括:用于吸取固定柔片的下吸附真空平台1;设置在所述下吸附真空平台1上部的上吸附真空平台2;设置在所述下吸附真空平台2上用于对柔片进行对位的对位机构3;用于给所述下吸附真空平台1和所述上吸附真空平台2提供真空吸附力的强弱真空系统4(强弱真空切换系统);与所述上吸附真空平台2连接用于驱动上吸附真空平台2竖直运动的贴近电缸机构5;以及与贴近电缸机构5连接用于带动贴近电缸机构5水平运动的伺服滑台机构6。

具体的,如图1、图2所示,本实施例中,所述贴近电缸机构5设置在所述上吸附真空平台2的上部,所述伺服滑台机构6设置在所述贴近电缸机构5的上部。也即是,所述贴近电缸机构5置于下吸附真空平台2上方,由伺服滑台机构6驱动,上吸附真空平台2固定于贴近电缸机构5上,对位机构3固定于下吸附真空平台1上,强弱真空系统作用于下吸附真空平台1和上吸附真空平台2上。

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