[实用新型]应用于涂胶设备的吸盘装置及涂胶设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种吸盘装置，特别涉及一种应用于涂胶设备的吸盘装置及涂胶设备，属于半导体制造技术领域。

背景技术

在半导体制造领域，光刻这一工艺步骤常用于制作刻蚀图形。而在新产品研发阶段，通常原材料较为昂贵，为避免实验失败带来的原材料损失，通常在产品调试阶段把一个4寸或6寸圆片解理成若干小尺寸芯片进行流通实验。通常单个管芯尺寸在10mm*10mm以内，然而在现有涂胶设备中，吸盘尺寸最小为13mm*13mm，因此进行涂胶操作时，芯片材料尺寸就必须大于13mm x 13mm，这就造成原材料的浪费。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种应用于涂胶设备的吸盘装置及涂胶设备，实现对小尺寸芯片的涂胶作业，节约了原材料和研发经费，从而克服了现有技术的不足。

为实现前述实用新型目的，本实用新型采用的技术方案包括：

本实用新型实施例提供了一种应用于涂胶设备的吸盘装置，具有沿轴向贯穿所述吸盘装置的真空吸孔，所述真空吸孔与真空发生设备连通，所述吸盘装置的上端面用以承载芯片，所述吸盘装置上端具有台阶形结构，其中上台阶面形成有一个以上环形凹槽，所述环形凹槽与所述上台阶面承载的芯片及真空吸孔同轴设置，同时所述环形凹槽还与真空吸孔连通。

进一步的，所述台阶形结构为双层台阶结构，其中下台阶面的直径大于上台阶面的直径。

进一步的，所述上台阶面的直径小于或等于所述芯片的直径。

进一步的，所述上台阶面形成有同轴设置的两个以上环形凹槽，所述的两个以上环形凹槽经形成于所述上台阶面的条形槽与所述真空吸孔连通。

进一步的，所述条形槽包括两个以上沿径向连续延伸的条形槽，且其中两个条形槽相互垂直交叉，每一条形槽还均与所述的两个以上环形凹槽交叉。

优选的，所述环形凹槽或条形槽的横向截面形状包括U形、V形、矩形或梯形，但不限于此。

进一步的，所述吸盘装置的下端面还形成有一固定槽，所述固定槽用以与涂胶设备的吸盘连接。

优选的，所述固定槽为圆柱形凹槽，且所述固定槽的槽底面为平整面。

进一步的，所述固定槽与所述装置的真空吸孔及所述涂胶设备的吸盘同轴设置。

本实用新型实施例还提供了一种涂胶设备，包括吸盘，所述吸盘还与所述的吸盘装置固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的优点包括：本实用新型提供应用于涂胶设备的吸盘装置结构简单，使用方便；与原有涂胶设备兼容性强，可以承载小尺寸芯片，提高新产品研发过程中原材料的利用率，进而节约研发成本。

附图说明

图1为本实用新型一典型实施例中一种应用于涂胶设备的吸盘装置剖面结构示意图；

图2为本实用新型一典型实施例中一种应用于涂胶设备的吸盘装置正面结构俯视图；

图3为本实用新型一典型实施例中一种应用于涂胶设备的吸盘装置与涂胶设备吸盘匹配状态的示意图。

具体实施方式

鉴于现有技术中的不足，本案发明人经长期研究和大量实践，得以提出本实用新型的技术方案。如下将对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明。

本实用新型实施例提供了一种应用于涂胶设备的吸盘装置，具有沿轴向贯穿所述吸盘装置的真空吸孔，所述真空吸孔与真空发生设备连通，所述吸盘装置的上端面用以承载芯片，所述吸盘装置上端具有台阶形结构，其中上台阶面形成有一个以上环形凹槽，所述环形凹槽与所述上台阶面承载的芯片及真空吸孔同轴设置，同时所述环形凹槽还与真空吸孔连通。

进一步的，所述台阶形结构为双层台阶结构，其中下台阶面的直径大于上台阶面的直径。

进一步的，所述上台阶面的直径小于或等于所述芯片的直径。

进一步的，所述上台阶面形成有同轴设置的两个以上环形凹槽，所述的两个以上环形凹槽经形成于所述上台阶面的条形槽与所述真空吸孔连通。

进一步的，所述条形槽包括两个以上沿径向连续延伸的条形槽，且其中两个条形槽相互垂直交叉，每一条形槽还均与所述的两个以上环形凹槽交叉。

优选的，所述环形凹槽或条形槽的横向截面形状包括U形、V形、矩形或梯形，但不限于此。

进一步的，所述吸盘装置的下端面还形成有一固定槽，所述固定槽用以与涂胶设备的吸盘连接。

优选的，所述固定槽为圆柱形凹槽，且所述固定槽的槽底面为平整面。

进一步的，所述固定槽与所述装置的真空吸孔及所述涂胶设备的吸盘同轴设置。