[实用新型]镀膜装置及镀膜系统

权利要求书

1.一种镀膜装置，其特征在于，包括：真空泵、反应室、蒸发源和工件架；

所述真空泵通过导气管与所述反应室连通；

所述反应室中央位置设置有旋转台，多个所述蒸发源设置在所述旋转台上，所述蒸发源的上方设有蒸发挡板；

所述反应室顶部设有第一电机，所述工件架设置在所述第一电机下方；

所述反应室的顶部设有加热器；

所述反应室的侧壁设有观察窗。

2.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述反应室底部还设有放气阀。

3.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述工件架上设置有镜片夹。

4.根据权利要求3所述的镀膜装置，其特征在于，所述镜片夹设置为多个，多个所述镜片夹等间距设置。

5.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述反应室内设有用于测量反应室内温度的温度传感器。

6.根据权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述反应室上安装有温度控制装置。

7.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述反应室的底部设有电离真空计。

8.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述蒸发挡板可旋转的设置在所述蒸发源的上方。

9.根据权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，所述蒸发挡板设置在第二电机上。

10.一种镀膜系统，其特征在与，包括权利要求1－9任一项所述的镀膜装置。