[实用新型]镀膜装置及镀膜系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种镀膜装置及镀膜系统。

背景技术

无论树脂或玻璃镜片其本身的透光率都只有91％左右，会有部分光线被镜片的两个表面反射回来。镜片的反射可使光线透过率减少并在视网膜形成干扰像而影响成像的质量，并影响配戴者的外观。如镜片外观涡旋明显，照相反光，看不到配戴者的眼睛等等。而镀膜镜片是利用光学薄膜及真空的新技术，镀上一定厚度的单层或多层光学薄膜，使镜片获得一些新的、原本不具备的优良性能，以改善镜片反射光线的能力，起到增强或减少光线透过的作用使镜片的透光率增加到98％。所镀的膜层主要有硬膜、多层减反射膜、抗污膜等。

各膜层的主要作用是：1)加硬膜：增加镜片表面的硬度，使其更加耐磨损。2)减反射膜：增加镜片可见光的透过率和防紫外线、防辐射的性能。3)抗污膜：因减反射膜的技术需要，该膜分子间空隙较大，镜片表面容易藏污纳垢，而抗污膜的物质分子颗粒小、分子之间空隙小，使镜片表面更加光洁，增加了防水、防雾、防尘等等防污染等功能。

镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可大大提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5％，单层镀膜后降至2％，而多层镀膜可降至0.2％，这样，可大大减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。

目前的镀膜技术装备由于其结构特点，导致加膜厚度不均，最终影响一次性成品率。

实用新型内容

本实用新型的第一个目的在于提供一种镀膜装置及镀膜系统，以缓解现有技术中存在的镀膜厚度不均匀的技术问题。

本实用新型提供的镀膜装置，包括：真空泵、反应室、蒸发源和工件架；

所述真空泵通过导气管与所述反应室连通；

所述反应室中央位置设置有旋转台，多个蒸发源设置在所述旋转台上，所述蒸发源的上方设有蒸发挡板；

所述反应室顶部设有第一电机，所述工件架设置在所述第一电机下方；

所述反应室的顶部设有加热器；

所述反应室的侧壁设有观察窗。

作为进一步的技术方案，所述反应室底部还设有放气阀。

作为进一步的技术方案，所述工件架上设置有镜片夹。

作为进一步的技术方案，所述镜片夹设置为多个，多个所述镜片夹等间距设置。

作为进一步的技术方案，所述反应室内设有用于测量反应室内温度的温度传感器。

作为进一步的技术方案，所述反应室上安装有温度控制装置。

作为进一步的技术方案，所述反应室的底部设有电离真空计。

作为进一步的技术方案，所述蒸发挡板可旋转的设置在所述蒸发源的上方。

作为进一步的技术方案，所述蒸发挡板设置在第二电机上。

本实用新型的第二个目的在于提供一种镀膜系统及镀膜系统，以缓解现有技术中存在的镀膜厚度不均匀的技术问题。

本实用新型还提供了一种镀膜系统，包括所述的镀膜装置。

本实用新型带来的有益效果为：

本实用新型提供的镀膜装置，包括：真空泵、反应室、蒸发源和工件架；真空泵通过导气管与反应室连通；反应室中央位置设置有旋转台，多个蒸发源设置在旋转台上，蒸发源的上方设有蒸发挡板；反应室顶部设有第一电机，工件架设置在第一电机下方；反应室的顶部设有加热器；反应室的侧壁设有观察窗。其中，反应室中央位置设置有旋转台，多个蒸发源设置在旋转台上，因此蒸发源与工件架上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架上工件的镀膜速率差，保证了镀膜的均匀。由于设置有蒸发挡板，可以把蒸发源蒸发的镀膜气体均布在每个镜片上，同时由于反应室顶部设有第一电机，工件架设置在第一电机下方，工件架可以回转运动，使得镜片在圆周运动中更加均匀的镀膜，提高了镀膜效率和一次镀膜成功率。反应室的顶部设有加热器，可以对反应室内进行加热，反应室的侧壁设有观察窗，可以观察反应室内的情况，进一步提高镀膜效率和一次镀膜成功率。本实用新型提供的镀膜装置能够快速均匀的使镀膜材料整齐完成镜片的镀膜。并且，该装置的结构简单、放置镜片等的工作简单易懂，对工人的工作量也低。