[实用新型]一种显影设备

说明书

技术领域

本申请涉及光刻胶技术领域，尤其涉及一种显影设备。

背景技术

随着国内半导体行业的发展，国内面板行业飞速发展，面板厂对光刻胶的种类、稳定性以及精密程度要求越来越高，相应的对实验室样品显影的均匀稳定测试所能够达到的效果要求也越来越高。

实验室对负性光刻胶的测试流程一般是涂膜、前烘、曝光、显影、后烘，而由于面板的高分辨率、高透过率、低膜厚的要求，上述测试流程中显影结果必须稳定均匀，边缘整齐无毛刺，像素条宽度均匀一致。

目前负性光刻胶的显影方式一般是手持前烘后的玻璃在配制好的显影液内左右摇晃一定的时间后取出，烘干，此方法会受到摇摆的速度、幅度以及显影液重复使用的次数影响，且与面板厂大型的显影设备差异较大。

发明内容

本申请实施例提供了一种显影设备，用以实现基板均匀稳定显影，满足光刻胶基板高分辨率、高透过率、低膜厚的要求。

本申请实施例提供的一种显影设备，包括用于固定需要喷涂显影液的基板的固定装置，以及与所述固定装置相对设置、用于向所述基板喷涂显影液的喷涂装置，其中，所述喷涂装置在喷涂显影液过程中在平行于所述基板的面上按照预设方式移动，使得显影液均匀喷涂在所述基板上。

本申请实施例提供的一种显影设备，该显影设备的喷涂装置在平行于所述基板的面上按照预设方式移动，其中预设方式移动，例如：喷涂装置以一定的移动轨迹、移动时间、移动频率以及移动范围进行喷涂显影液，以保证基板均匀稳定显影，实现光刻胶基板高分辨率、高透过率、低膜厚的要求。

可选地，所述喷涂装置包括喷头体、连杆机构、固定架以及第一电机，所述喷头体与所述固定架连接，所述固定架通过连杆机构与所述第一电机连接。

可选地，所述喷头体在喷涂显影液过程中在平行于所述基板的面上的移动轨迹为直线或曲线。

本申请实施例提供的显影设备，喷头体在喷涂显影液过程中在平行于所述基板的面上移动轨迹为直线或曲线，可以使得需要喷涂显影液的基板各个地方受到的喷淋压力相同，进而实现基板的均匀显影。

可选地，所述固定架包括水平杆、竖直杆和显影设备平台，所述喷头体与所述水平杆的一端连接，所述水平杆的另一端与所述竖直杆的顶端固定连接，所述竖直杆底端通过轴承以及轴承座活动连接于所述显影设备平台上。

可选地，所述连杆机构包括第一连杆、第二连杆以及第三连杆，所述第一连杆上设有用于与所述第二连杆铰接的铰接点和用于使得所述铰接点可以沿着所述第一连杆的延伸方向来回移动的滑块及滑道，所述第二连杆连接于所述第三连杆和第一连杆之间，所述第三连杆的一端与所述第二连杆铰接，其另一端与所述第一电机的转动轴连接。

本申请实施例提供的显影设备，设置在所述第一连杆上的铰接点以及用于使得铰接点可以沿着第一连杆的延伸方向来回移动的滑块及滑道，随着滑块的移动，铰接点的位置发生改变，使得铰接点与竖直杆之间的距离发生改变，可以使得喷涂装置的移动幅度发生改变，进而使得喷头体的喷淋范围发生改变，此结构方便控制喷头体的喷淋范围，可以有效防止喷淋范围过小无法覆盖基板整体，喷淋范围过大造成喷淋损失的问题。

可选地，所述喷头体包括用于喷淋显影液的第一喷头和用于喷淋水的第二喷头，所述第一喷头的喷孔、所述第二喷头的喷孔均与所述基板相对设置。

本申请实施例提供的显影设备，喷头体包括第一喷头和第二喷头，第一喷头用于喷涂显影液，第二喷头用于喷淋纯水，将显影液与纯水分离开，避免互相造成污染，还可以在喷完显影液后利用该显影装置喷淋纯水，避免在喷淋纯水时对显影液的均匀度及稳定性造成影响。

可选地，还包括用于用户切换所述第一喷头与所述第二喷头工作的操作装置。

本申请实施例提供的显影设备，当第一喷头喷淋显影液后，操作装置可以自动或人工控制第二喷头进行喷淋纯水，简单方便。

可选地，还包括用于控制所述第一喷头、所述第二喷头每次工作的工作时间及时长的控制部件。

本申请实施例提供的显影设备，控制部件用于控制第一喷头与第二喷头的工作时间，避免人工操作造成的时间差，保证每个基板喷淋显影液的均匀度与稳定性。

可选地，所述固定装置包括基台以及设置在所述基台上的用于支撑所述基板的支撑平台。

可选地，所述固定装置中设置有第二电机，用于在喷涂显影液过程中，控制所述支撑平台带动所述基板按照预设方向匀速旋转。