[实用新型]一种温控平台

说明书

技术领域

本实用新型实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种温控平台。

背景技术

在形成显示面板的过程中，往往需要对显示面板中的基板进行加热处理，例如在使用沉积工艺沉积半导体层时或使用黄光工艺来制作色阻层时。使用黄光工艺形成色阻的过程为：形成一层色阻层；在色阻层上形成光阻(也称为光刻胶，一般通过涂覆光阻液并对光阻液加热固化的方式来得到光阻)；对光阻的特定部分通过遮光罩进行光照处理将遮光罩上的图像信息转移到光阻上；利用显影液对光阻进行显影，对于正性光阻来说，去除了光阻被曝光的部分，保留了未被曝光的部分，从而使光阻形成所需图案；再通过光阻图案对色阻层进行蚀刻，将光阻图案转移到色阻层上，以便形成色阻。

在将基板进行加热的过程中通常会通过支撑针来对基板进行支撑，由于支撑针的存在导致了基板的受热不均(一般来说，支撑针在取出待加热基板时，支撑针的温度高于待加热基板的温度；而在对待加热基板进行加热时，支撑针的温度低于待加热基板的温度)，并因此导致了最终形成的显示面板存在缺陷。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种温控平台，以实现改善支撑针造成的基板受热不均的问题。

本实用新型实施例提供了一种温控平台，包括：

加热平板，所述加热平板具有多个孔洞，所述孔洞贯穿所述加热平板设置；

支撑体底座，所述支撑体底座位于所述加热平板的第一侧；

多个支撑针，所述支撑针的长度大于所述加热平板的厚度，且穿过所述加热平板在所述孔洞中伸缩运动，所述支撑针的第一端与所述支撑体底座固定；

制冷设备，所述制冷设备包括制冷部和传导气管；所述传导气管与所述支撑体底座和所述多个支撑针接触；

所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧表面之间的距离小于等于第一预设距离时，所述支撑针的第二端位于所述加热平板的第二侧，所述制冷设备为所述多个支撑针制冷。

进一步地，所述支撑体底座包括底座和框架；所述框架为网格状；所述多个支撑针固定在所述框架上，所述框架固定在所述底座上；

所述传导气管围绕所述底座设置。

进一步地，所述传导气管设置有通气孔，所述制冷部中设置有制冷剂；

所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离时，所述支撑针的第二端位于所述加热平板的第二侧，所述制冷部通过所述通气孔将所述制冷剂喷洒到所述支撑体底座和所述多个支撑针上。

进一步地，所述制冷剂包括四氟乙烷。

进一步地，所述支撑体底座和所述支撑针为金属材料。

进一步地，所述温控平台还包括多个加热器，每一个所述加热器与每一个所述支撑针接触；

所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧平面之间的距离等于第二预设距离时，所述支撑针的第二端与所述加热平板第二侧表面平齐，所述多个加热器同时开启为所述多个支撑针加热。

进一步地，所述多个加热器位于所述加热平板的第一侧。

进一步地，所述加热器包括加热电阻。

进一步地，所述温控平台还包括电源和开关元件，所述电源、开关元件与所述多个加热电阻组成加热电路；

多个所述加热电阻并联后的一端通过所述开关元件与所述电源的正极连接；多个所述加热电阻并联后的另一端与所述电源的负极连接；

多个所述加热电阻具有相同的电阻值。

进一步地，所述温控平台还包括位置传感器，所述位置传感器位于所述加热平板的第一侧，用于检测所述支撑体底座与所述加热平板的第一侧表面之间的距离。

本实用新型实施提供的温控平台包括加热平板、支撑体底座、固定在支撑体底座上的多个支撑针和制冷设备，加热平板作为加热源可以对待加热基板进行加热，且支撑针可以穿过加热平板上的孔洞运动，当取出待加热基板时，可以使支撑针穿过加热平板并顶起待加热基板，然后由支撑针托举待加热基板向加热平板运动，直至待加热基板与加热平板接触，由加热平板完成对待加热基板的加热处理。本实用新型实施提供的温控平台还包括制冷设备，制冷设备包括制冷部和传导气管，传导气管与支撑体底座和多个支撑针接触，当支撑体底座与加热平板的第一侧平面之间的距离小于等于第一预设距离时，支撑针的第二端位于加热平板的第二侧，此时支撑针穿过加热平板的孔洞取出待加热基板，制冷设备通过与支撑体底座和多个支撑针接触的气管为多个支撑针制冷，减小了支撑针与待加热基板平面之间的温度差异，从而改善了支撑针造成的基板受热不均的问题。