[实用新型]一种硅片的刻蚀设备

权利要求书

1.一种硅片的刻蚀设备，包括机架，其特征在于，所述机架上固定有校正槽和刻蚀槽，校正槽内具有用于输送硅片的若干输送辊一，刻蚀槽内具有用于输送硅片的若干输送辊二，机架上铰接有能将刻蚀槽开口封闭住的盖板，盖板的截面呈倒V形，机架上设置有能将盖板处的雾气进行清除的清除机构，清除机构包括集液盒、刮板、导轨、滑块、抽风管和抽气泵，导轨水平固定在盖板中部，滑块设置在导轨上，滑块与一能带动其来回移动的移动结构相连，刮板通过连杆一和滑块相连，且刮板与盖板内壁相接触，集液盒通过连杆二固定在滑块上，且集液盒位于刮板正下方，抽风管一端通过连杆三固定在滑块上，抽风管另一端穿出盖板与抽气泵相连，抽风管上还设置有单向阀。

2.根据权利要求1所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述移动结构包括驱动电机、齿轮和齿条，齿条水平固定在导轨上，驱动电机固定在滑块上，驱动电机的输出轴水平设置，齿轮固定在驱动电机的输出轴端部，且齿轮与齿条相啮合。

3.根据权利要求1所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述集液盒下部还连接有排液管，排液管上设置有电磁阀。

4.根据权利要求1所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述机架上设置有能对校正槽内的硅片进行喷淋的喷淋机构，喷淋机构包括喷淋管和调节辊，喷淋管通过支架固定在机架上，且喷淋管位于校正槽的正上方，喷淋管侧部开设有若干喷水孔，调节辊设置在校正槽内，且调节辊与输送辊一相互平行，调节辊与一能带动其上下升降的升降结构相连。

5.根据权利要求4所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述升降结构包括安装架、推杆电机、导杆和导套，安装架固定在机架上，导杆竖直固定在安装架上，导套设置在导杆上，调节辊连接在导套上，推杆电机固定在安装架上，推杆电机的推杆竖直向下，推杆电机的推杆端部和导套相连。

6.根据权利要求5所述的硅片的刻蚀设备，其特征在于，所述机架上还设置有能对刻蚀槽内进行补液的补液机构，补液机构包括配液桶、进液管和补液管，配液桶固定在机架上，配液桶上部和进液管一端相连通，进液管另一端能与外界相连通，进液管上还设置有输送泵一，配液桶下部和补液管一端相连通，补液管另一端和刻蚀槽相连通，补液管上还设置有输送泵二，配液桶上竖直设置有转动轴，转动轴上端与减速电机相连，转动轴下端固定有三个分隔片，且分隔片将配液桶内腔分隔成三个配液腔，分隔片上还固定有搅拌电机，搅拌电机的输出轴端部固定有搅拌叶片。