[实用新型]一种用于光刻机的顶销吸附平台有效

专利信息
申请号: 201720895756.6 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN207224925U 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 周朝渊;张世龙;唐守杰 申请(专利权)人: 雅科贝思精密机电(上海)有限公司
主分类号: B44B1/06 分类号: B44B1/06;B44B3/06
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)11411 代理人: 黄冠华
地址: 200000 上海市浦东新区川*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 光刻 吸附 平台
【权利要求书】:

1.一种用于光刻机的顶销吸附平台,其特征在于:包括吸附平台,所述吸附平台上均匀设置有若干第一通孔,所述吸附平台的下方设置有顶销连接平台,所述顶销连接平台的上端面均匀设置有若干顶销,每个所述顶销对应一个所述第一通孔,所述顶销的端部设置有吸盘或支撑球;

所述顶销连接平台的中部螺纹连接有滚珠丝杠,所述滚珠丝杠的下端连接有直驱旋转电机。

2.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的顶销吸附平台,其特征在于:所述顶销连接平台上在所述滚珠丝杠的两侧对称设置有两个第二通孔,每个第二通孔内设置有一个滑动导轨,所述滑动导轨与所述吸附平台下端面固定连接,所述顶销连接平台与所述滑动导轨滑动连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的顶销吸附平台,其特征在于:所述吸附平台为多孔质陶瓷吸附平台。

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