[实用新型]等离子蚀刻腔负极板固定结构有效
申请号: | 201720988509.0 | 申请日: | 2017-08-09 |
公开(公告)号: | CN207082508U | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 许赞 | 申请(专利权)人: | 重庆臻宝实业有限公司;许赞 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙)50216 | 代理人: | 龙玉洪 |
地址: | 401326 重庆市九*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 蚀刻 极板 固定 结构 | ||
技术领域
本实用新型属于半导体晶片蚀刻装置技术领域,具体涉及一种等离子蚀刻腔负极板固定结构。
背景技术
等离子蚀刻腔被广泛应用在常规半导体晶片的蚀刻处理工序中,在蚀刻腔内的上壁和下壁分别固定有水平设置的负极板和正极板,蚀刻时,半导体晶片放置在正极板上,往蚀刻腔中注入反应气体,同时,对正极板和负极板施加高频电压,使其产生等离子体,达到等离子蚀刻的效果。
传统装置中负极板通过螺栓与安装板固定连接后安装都蚀刻腔上,安装板和负极板上加工有对应的通孔,然后在通孔处穿设螺栓,在螺栓尾端拧上螺帽来固定,而螺帽一端通常处于蚀刻腔内,暴露在蚀刻腔中,存在被腐蚀风险,同时负极板下部有开孔,在压力温度等作用下,容易破损,而螺栓与螺帽连接处则容易因为腐蚀发生磨损,从而发生螺栓或者螺帽脱离,导致负极板掉落发生损伤,甚至砸坏半导体晶片等情况。
实用新型内容
为解决以上技术问题,本实用新型提供了一种等离子蚀刻腔负极板固定结构,简化固定结构,同时保证固定连接可靠,延长连接部位的寿命,降低部件损耗率。
为实现上述目的,本实用新型技术方案如下:
一种等离子蚀刻腔负极板固定结构,包括通过连接螺栓相互连接的负极板和安装板,负极板位于安装板的下方,安装板上开设有通孔,其关键在于:所述负极板正对通孔的位置开设有纵向截面呈“工”字型的基孔,基孔的上端敞口,下端与负极板底壁之间留有间隙;
所述基孔包括水平设置的上安装腔、下安装腔以及竖直地连接在该上安装腔和下安装腔之间的中间安装腔,基孔内嵌设有圆柱状的螺母座,其纵向截面呈“T”字型,并与所述基孔同轴设置,螺母座的上端台阶位于上安装腔内,其下端位于中间安装腔内,该螺母座下端端部连接有堵头螺栓,堵头螺帽竖直朝上,其栓帽的上端面与下安装腔的上壁抵接;
所述连接螺栓从安装板上侧向下穿过通孔后,与螺母座螺纹连接。
采用以上方案,通过连接螺栓、堵头螺栓和螺母座向配合,将负极板固定在安装板的下侧,且连接位置没有未暴露在蚀刻腔中,避免堵头螺栓和连接螺栓受到等离子气体等的腐蚀,延长连接结构的使用寿命,同时堵头螺栓与连接螺栓共同作用,可以限制螺母座的转动,从而提高固定结构的可靠性,防止抖动造成螺母座转动,带动负极板的偏移,降低晶片蚀刻质量。
作为优选:所述上安装腔和中间安装腔均呈中空圆柱结构,下安装腔呈中空长条状结构;
所述栓帽的上端面呈矩形结构,其长度大于下安装腔的宽度以及中间安装腔的直径。采用以上结构,可将堵头螺栓直接从上方放入下安装腔中,堵头螺栓在旋转时受到下安装腔宽度的限制,使其活动范围很小,这样从上方放入螺母座后,不需再单独固定堵头螺栓,直接旋转螺母座,即可使两者实现螺纹连接。
作为优选:所述下安装腔左右两端呈光滑弧面结构,所述栓帽上端面的两端具有水平向外延伸的弧形凸起部。采用以上结构,使栓帽与下安装腔的侧壁之间为线接触,可有效避免堵头螺栓在下安装腔中卡死的情况,方便拆装。
作为优选:所述栓帽纵向截面呈上大下小的锥状结构,其侧壁呈光滑弧面结构,其下端面呈光滑平面结构。采用以上结构,方便堵头螺栓直接从基孔上方放入下安装腔中。
作为优选:所述螺母座内设有与连接螺栓配合的上部内螺纹,以及位于上部内螺纹正下方与堵头螺栓配合的下部内螺纹。
采用以上结构,螺母座通过两段不同的内螺纹分别与连接螺栓和堵头螺栓连接,使连接更可靠。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
采用本实用新型提供的等离子蚀刻腔负极板固定结构,避免连接结构的组件,即连接螺栓、堵头螺栓和螺母座暴露在蚀刻腔的内部反应气体中,防止受到腐蚀,从而相对延长了使用寿命,同时,通过连接螺栓和堵头螺栓上下夹持连接,使螺母座周向和轴向同时固定,减少其振动偏移,进一步提高蚀刻质量,提高装置可靠性和稳定性,具有极大的实用价值。
附图说明
图1为本实用新型的主视图;
图2为图1所示实施例的俯视图;
图3为基孔纵截面结构示意图;
图4为图3所示基孔俯视图;
图5为堵头螺栓主视图;
图6为图5所示堵头螺栓俯视图;
图7为图螺母座主视图;
图8为图7所示螺母座俯视图;
图9为本实用新型的使用状态示意图。
具体实施方式
以下结合实施例和附图对本实用新型作进一步说明。
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