[实用新型]研磨抛光装置

权利要求书

1.一种研磨抛光装置，包括安装在主轴(1)上能随主轴(1)转动的用于装夹住镜片(2)的镜片盘(3)、扣设在镜片盘(3)顶面上与镜片盘(3)配合对镜片(2)进行研磨抛光的抛光模(4)、紧贴设置在抛光模(4)底面上的用于对镜片(2)进行研磨抛光的聚氨酯研磨抛光层(5)以及垂直压设在抛光模(4)上方中央用于固定抛光模(4)和镜片盘(3)两者相对位置的压轴(6)，所述镜片盘(3)的顶面为凸面，所述抛光模(4)底面的曲率半径与镜片盘(3)顶面的曲率半径相同且两者形状相适应，其特征在于：所述抛光模(4)上设有贯通抛光模(4)上下表面的多个通水孔(4-1)，聚氨酯研磨抛光层(5)上对应各通水孔(4-1)的位置处还设有贯通聚氨酯研磨抛光层(5)上下表面的多个孔洞(5-1)。

2.根据权利要求1所述的研磨抛光装置，其特征在于：所述通水孔(4-1)在抛光模(4)上均匀分布，每个通水孔(4-1)的中轴线与抛光模(4)底面的夹角为40-50°且直径为4.5-5.5mm。

3.根据权利要求1所述的研磨抛光装置，其特征在于：所述聚氨酯研磨抛光层(5)的大小与抛光模(4)的底面大小相适应且该聚氨酯研磨抛光层(5)包括多个叶片(5-2)呈风叶状。

4.根据权利要求3所述的研磨抛光装置，其特征在于：所述多个叶片(5-2)相对聚氨酯研磨抛光层(5)的中心点中心对称，所述研磨抛光装置还包括设在抛光模(4)底面和聚氨酯研磨抛光层(5)之间用于粘结两者的粘合剂层(7)。

5.根据权利要求4所述的研磨抛光装置，其特征在于：所述叶片(5-2)的尺寸符合以下参数：

R_tp＝(R_pjt+1/2b)γ_pm

R_yp＝R_tp/2cos(ω+60±5°)

ω＝π(R_pjt+1/2b)sinγ_pm/6R_tp

其中，R_pjt为抛光模(4)的底面半径，R_tp为聚氨酯研磨抛光层(5)的曲率半径，b为聚氨酯研磨抛光层(5)和粘合剂层(7)的总厚度，γ_pm为抛光模(4)的半张角，ω为聚氨酯研磨抛光层(5)中心点与某叶片(5-2)外边沿的中点的连线与聚氨酯研磨抛光层(5)中心点与该叶片(5-2)外边沿的一端点的连线之间形成的夹角，R_yp为叶片(5-2)半径。

6.根据权利要求4所述的研磨抛光装置，其特征在于：所述多个叶片(5-2)为6-8片等大的叶片。

7.根据权利要求4所述的研磨抛光装置，其特征在于：所述粘合剂层(7)为三键1521合成橡胶层。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的研磨抛光装置，其特征在于：所述聚氨酯研磨抛光层(5)底面设有贯通聚氨酯研磨抛光层(5)中心点的至少1条沟槽(5-3)，且每条沟槽(5-3)的两端部均延伸至聚氨酯研磨抛光层(5)的外边沿。

9.根据权利要求8所述的研磨抛光装置，其特征在于：所述沟槽(5-3)为2条且相互垂直；所述每条沟槽(5-3)的宽度为0.5-1.5mm。