[实用新型]研磨抛光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种研磨抛光装置，应用在镜片的研磨抛光领域。

背景技术

多片加工是光学冷加工的一种常规生产方式。随着目前镜片冷加工激烈的市场价格竞争，生产企业为提升加工效率，多采用研磨抛光装置对镜片进行加工，现有的研磨抛光装置包括镜片盘和扣设在镜片盘顶面上的底面黏贴有研磨抛光层(成分为聚氨酯)的抛光模，其中所述镜片盘的顶面为凸面且一次能装夹固定多片(通常为20-200片)镜片，所述抛光模的底面与镜片盘顶面的凸面形状相适应，加工时镜片固定在镜片盘顶面，抛光模压在所述镜片表面使研磨抛光层与其接触从而对其进行研磨抛光。

所述研磨抛光过程是在高压和高速的加工条件下进行的，镜片表面与聚氨酯材料的研磨抛光层摩擦时的温度可以达到一百多度。在抛光过程中，需要在镜片的表面(加工面)上浇灌抛光液。抛光液由水和抛光粉调配而成。抛光液的作用主要是起到镜片水解、研磨抛光和降低镜片表面温度的的三个效果。镜片研磨抛光的过程主要是水、抛光粉、研磨抛光层等与镜片之间化学作用的结果。因为镜片的主要成分就是二氧化硅，其表面在水的作用下发生水解，形成硅态硅酸层。在正常情况下，胶态硅酸层能保护镜片的表面，大大减缓侵蚀速度，但在研磨抛光层及抛光粉的作用下，该硅态硅酸层被刮去，露出镜片新的表面，之后镜片新的表面又水解产生新的硅态硅酸层，新的硅态硅酸层又在研磨抛光层及抛光粉的作用下被刮去，如此往复循环，以完成研磨抛光过程。然而在加工过程中，抛光液浇灌时因为抛光模高速运转产生的离心力致使抛光液很难接触到抛光模的中心部分，因而容易产生抛光模发热、镜片盘中央装夹的镜片无水研磨等情况导致镜片产品品质不合格。

因此，其虽然加工效率较高，但为了规避上述抛光模发热、镜片盘中央装夹的镜片无水研磨等情况，需要延长加工时间，降低加工转速或减少加工压力(即其散热更差)，从而导致多片加工的效率大打折扣，也失去了同时多片加工提升效率的作用。

因此提供一种能使得镜片加工过程中避免抛光模发热、整个镜片盘上装夹的镜片都能充分接触到抛光液避免无水研磨、能有效保障多片加工效率和质量的研磨抛光装置己成为当务之亟。

实用新型内容

为了克服现有研磨抛光装置虽然加工效率较高，但由于抛光模高速运转产生的离心力致使浇灌的抛光液很难接触到抛光模的中心部分，容易导致抛光模发热、镜片盘中央装夹的镜片无水研磨等情况，为避免以上情况，需要延长加工时间，降低加工转速或减少加工压力，导致多片加工效率降低的缺点，本实用新型提供一种研磨抛光装置，具有能在镜片加工过程中避免抛光模发热、保证整个镜片盘上装夹的镜片都能充分接触到抛光液从而避免无水研磨、能有效保障多片加工效率和质量的优点。

本实用新型的技术方案如下：

一种研磨抛光装置，包括安装在主轴上能随主轴转动的用于装夹住镜片的镜片盘、扣设在镜片盘顶面上与镜片盘配合对镜片进行研磨抛光的抛光模、紧贴设置在抛光模底面上的用于对镜片进行研磨抛光的聚氨酯研磨抛光层以及垂直压设在抛光模上方中央用于固定抛光模和镜片盘两者相对位置的压轴，所述镜片盘的顶面为凸面，所述抛光模底面的曲率半径与镜片盘顶面的曲率半径相同且两者形状相适应。所述抛光模上设有贯通抛光模上下表面的多个通水孔，聚氨酯研磨抛光层上对应各通水孔的位置处还设有贯通聚氨酯研磨抛光层上下表面的多个孔洞。

区别于现有在抛光加工过程中，在镜片的表面(加工面)上直接浇灌抛光液，由于离心力作用抛光液无法到达镜片盘表面中央位置的镜片上导致抛光模发热、镜片无水研磨等问题的缺点。该申请的研磨抛光装置的抛光模开有通水孔，加工镜片时，抛光液直接浇灌在抛光模顶部，其不仅能对抛光模进行直接降温，而且可以通过通水孔直接流到夹设在镜片盘中央的镜片表面，对镜片和抛光模进行良好的散热且保证抛光液的流动性避免镜片的无水研磨，可提升镜片的抛光效率以及产品面精度和外观等品质的稳定性。抛光模可以采用铸铁或铜材料。

所述通水孔在抛光模上均匀分布，每个通水孔的中轴线与抛光模底面的夹角为40-50°且直径为4.5-5.5mm。

采用上述优选的通水孔对镜片和抛光模的散热效果更佳。

所述聚氨酯研磨抛光层的大小与抛光模的底面大小相适应且该聚氨酯研磨抛光层包括多个叶片呈风叶状。

风叶状的聚氨酯研磨抛光层可增加切削率，且叶片间的空隙可方便抛光液的排出，避免抛光液由于高温干了后抛光粉黏在镜片表面影响抛光加工或堵住叶片间的空隙阻碍抛光液的排出影响散热。