[实用新型]一种用于薄膜表面镀膜处理的电极系统有效
申请号: | 201720999579.6 | 申请日: | 2017-08-10 |
公开(公告)号: | CN207128301U | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 范新江 | 申请(专利权)人: | 合肥科烨电物理设备制造有限公司 |
主分类号: | B29C71/04 | 分类号: | B29C71/04 |
代理公司: | 安徽信拓律师事务所34117 | 代理人: | 张加宽 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高新区长*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 薄膜 表面 镀膜 处理 电极 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备技术领域,具体涉及一种用于薄膜表面镀膜处理的电极系统。
背景技术
电晕机,是一种硅橡胶、塑胶、薄膜和其他材料的表面前处理的设备。
电晕机根据所要处理的物体的形状不同分为不同的结构方式,但电控部分大体是相同的。薄膜电晕处理机适用于处理PP、PE、PS、PET、PA、PVC、BOPP、OPP、PT等材料膜、板材、片材的表面湿润张力处理。
电极系统是电晕机镀膜的关键部分,传统的电晕机镀膜不能调整电极与薄膜之间的间隙,不能满足不同的镀膜要求。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种用于薄膜表面镀膜处理的电极系统。
本实用新型所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
一种用于薄膜表面镀膜处理电极系统,包括电极,所述电极上设有滑块,电极通过所述滑块安装在内置直线导轨上,所述直线导轨上设有固定螺母,直线导轨通过固定螺母与调节螺杆连接,所述调节螺杆安装在旋转轴承座上,所述旋转轴承座安装在固定支架上,所述固定支架安装在框架连接杆上,所述框架连接杆安装在前、后端板上。电极在内置导轨上滑动,内置导轨通过调节螺杆调整高度,实现电极的位置可调。
所述后端板上设有绝缘基座,所述绝缘基座上安装电连接插座。
所述电极上设有气路分配口、电连接插头、电极连接板。
所述前后端板上安装有旋转轴,所述旋转轴上安装有风刀,旋转轴带动风刀旋转。
所述前后端板及固定支架上安装有外罩,所述外罩上安装有排风口。
所述电极长度1640mm,电极高度可调节范围±5mm。
其原理是测量表头固定待测工件上下移动:带滑块的电极安装在内置直线导轨上,直线导轨上安装有固定螺母,固定螺母与固定在支架上的旋转轴承座上的调节螺杆连接,旋转调节螺杆实现电极的高度调节,根据不同要求,调节风刀旋转轴,改变风刀出风方向,满足不同产品要求。
本实用新型的作用是满足客户用同一设备实现产品不同要求,节约成本,用新的方式方法解决单一设备实现单一产品问题。
本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,设计新颖,这种结构采用的方法避免了放电间隙不均匀及薄膜表面灰尘无法清除导致产品镀膜质量不理想情况的发生,所以其镀膜质量高,且简单方便。
附图说明
图1为本实用新型电极系统示意图;
图2为本发明旋转轴承座放大图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。
如图1-2所示,一种用于薄膜表面镀膜处理的电极系统,应用于薄膜表面镀膜处理,电极调整间隙±5mm,长度在1.6m以内的薄膜镀膜处理,包括电极1,电极1上设有滑块8,电极1通过滑块8安装在内置直线导轨6上,直线导轨6上设有固定螺母5,直线导轨6通过固定螺母5与调节螺杆3连接,调节螺杆3安装在旋转轴承座4上,旋转轴承座4安装在固定支架2上,固定支架2安装在框架连接杆9上,框架连接杆9安装在前、后端板10上,电极1在直线导轨6上滑动,直线导轨6通过调节螺杆3调整高度,实现电极的位置调节,电机1下方安装旋转轴7,旋转风刀安装在旋转轴7上。
其原理是电极1上下移动,风刀转动:带滑块8的电极1安装在内置直线导轨6上,直线导轨6上安装有固定螺母5,固定螺母5与固定在支架2上的旋转轴承座4上的调节螺杆3连接,旋转调节螺杆3实现电极的高度调节,根据不同要求,调节风刀旋转轴7,改变风刀出风方向,满足不同产品要求。
实际生产中,有1600mm宽幅薄膜,其表面镀膜要求各不相同。根据本发明的原理,我们设计并使用了沿薄膜宽度方向三根并列设置的电极1,用以对宽幅1600mm的薄膜表面处理。电极上的电极连接板插在电极连接插座上,电极连接插座上连接高压线,旋转调节螺杆,调整电极与旋转辊之间的间隙,并调整风刀旋转轴,调节风刀的出风方向,实现不同要求的薄膜的镀膜处理。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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