[实用新型]在线监测氮化硅膜厚折射率的装置有效

专利信息
申请号: 201721113048.9 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN207116376U 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 杨晴 申请(专利权)人: 常州亿晶光电科技有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L21/67
代理公司: 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙)32258 代理人: 朱丽莎
地址: 213000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 在线 监测 氮化 硅膜厚 折射率 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及硅片生产设备技术领域,尤其涉及一种在线监测氮化硅膜厚折射率的装置。

背景技术

硅片在印刷完成后包装之前,需要对硅片的膜厚折射率进行监测,目前,一般都是采用离线式的椭偏仪来测试,然后人工手动通过颜色来进行分选。采用这种方式的弊端是:离线式监控膜厚折射率的测试方法比较滞后,不利于效率的稳定,而且浪费人力;在包装前,进行人工分选的时候硅片之间的摩擦出现划痕,做成组件后会有效率的损失,外观也会有轻微的影响。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是:为了解决现有技术中的技术问题,本实用新型提供一种在线监测氮化硅膜厚折射率的装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种在线监测氮化硅膜厚折射率的装置,该装置设置在PECVD镀膜完成后的下片机的末端,该装置包括第一输送轨道、第二输送轨道、第三输送轨道、测试装置以及吸盘机,所述第一输送轨道的前端设置在下片机的末端,第一输送轨道、第二输送轨道和第三输送轨道的输送方向均不相同,两个测试装置对称设置在第一输送轨道两侧的上方,两个测试装置的测试数据信号发射均能够汇聚在第一输送轨道的上方,所述吸盘机位于第一输送轨道、第二输送轨道和第三输送轨道的上方,吸盘机和测试装置通过控制系统信号连接。

本实用新型在线监测氮化硅膜厚折射率的装置,PECVD镀膜完成后下片时,在下片机的传输轨道末端,加装一段测试装置,测试装置包括三个方向的传输轨道、测试部分和吸盘,测试完成后通过吸盘将不同膜厚折射率的硅片,传输到不同的轨道上,吸盘部分包括膜厚折射率范围自动分选模块,测试结果直接传输到该模块上控制吸盘,第一输送轨道传输膜厚折射率在控制范围内的硅片,第二输送轨道传输膜厚折射率大于控制范围的硅片,第三输送轨道传输小于控制范围的膜厚折射率的硅片;

为了便于将硅片进行分类,所述第二输送轨道和第三输送轨道的输送方向均和第一输送轨道垂直,第二输送轨道和第三输送轨道的输送方向相反,且均朝向第一输送轨道的外侧,两个测试装置位于第二输送轨道和第三输送轨道的后方,吸盘机设置在第一输送轨道上方的第二输送轨道和测试装置之间的位置上。

所述测试装置采用椭偏仪。测试装置具有自动测试模块,硅片传输到测试装置范围内后,进行自动测试。

吸盘机包括吸盘和自动分选模块,自动分选模块和测试装置通过控制系统信号连接。

本实用新型的有益效果是,本实用新型的在线监测氮化硅膜厚折射率的装置,能够在线监实时监测膜厚折射率,实现膜厚折射率有效的管控,减少膜厚折射率异常带来的效率损失,减少颜色分选过程中造成的摩擦痕,节约人工成本,结构简单,操作方便,便于推广和应用。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型最优实施例的结构示意图。

图中:1、第一输送轨道,2、第二输送轨道,3、第三输送轨道,4、测试装置,5、吸盘,6、硅片。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本实用新型的基本结构,因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1所示,是本实用新型最优实施例,一种在线监测氮化硅膜厚折射率的装置,该装置设置在PECVD镀膜完成后的下片机的末端,该装置包括第一输送轨道1、第二输送轨道2、第三输送轨道3、测试装置4以及吸盘机,第一输送轨道1的前端设置在下片机的末端,第一输送轨道1、第二输送轨道2和第三输送轨道3的输送方向均不相同,两个测试装置4对称设置在第一输送轨道1两侧的上方,两个测试装置4的信号发射均能够汇聚在第一输送轨道1的上方,吸盘机位于第一输送轨道1、第二输送轨道2和第三输送轨道3的上方,吸盘机和测试装置4通过控制系统信号连接。

第二输送轨道2和第三输送轨道3的输送方向均和第一输送轨道1垂直,第二输送轨道2和第三输送轨道3的输送方向相反,且均朝向第一输送轨道1的外侧,两个测试装置4位于第二输送轨道2和第三输送轨道3的后方,吸盘机设置在第一输送轨道1上方的第二输送轨道2和测试装置4之间的位置上。

测试装置4采用椭偏仪。吸盘机包括吸盘5和自动分选模块,自动分选模块和测试装置4通过控制系统信号连接。

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