[实用新型]一种防蓝光防指纹光学保护膜有效
| 申请号： | 201721147639.8 | 申请日： | 2017-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN207133455U | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 胡露;刘振宇;杨柱;张小平;龚露露;张宏元;姜磊;蔡彦;王雪琴 | 申请（专利权）人： | 湖北航天化学技术研究所 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B1/14;G02B1/111;G02B27/00 |
| 代理公司： | 襄阳中天信诚知识产权事务所42218 | 代理人： | 何静月 |
| 地址： | 441003 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 防蓝光防 指纹 光学 保护膜 | ||
1.一种防蓝光防指纹光学保护膜，其特征在于：包括透明基材（1）、蓝光阻隔层（2）、高折射率涂层（3）、低折射率防污涂层（4）、压敏胶层（5）和离型膜（6）；
所述透明基材（1）上表面涂覆有蓝光阻隔层（2），蓝光阻隔层（2）上表面涂覆有高折射率涂层（3），高折射率涂层（3）上表面涂覆有低折射率防污涂层（4），透明基材（1）下表面涂覆有压敏胶层（5），压敏胶层（5）下表面复合离型膜（6）。
2.根据权利要求1所述的防蓝光防指纹光学保护膜，其特征在于：所述透明基材为光学级聚对苯二甲酸乙二酯（PET）薄膜或聚碳酸酯（PC）薄膜，厚度为20~200μm。
3.根据权利要求1所述的防蓝光防指纹光学保护膜，其特征在于：所述蓝光阻隔层采用湿法精密涂布工艺形成，厚度为1~10μm。
4.根据权利要求1所述的防蓝光防指纹光学保护膜，其特征在于：所述高折射率涂层采用湿法精密涂布工艺形成，厚度为1~10μm。
5.根据权利要求1所述的防蓝光防指纹光学保护膜，其特征在于：所述低折射率防污涂层含有防指纹助剂，采用湿法精密涂布工艺形成，厚度为1~10μm。
6.根据权利要求1所述的防蓝光防指纹光学保护膜，其特征在于：所述压敏胶层为丙烯酸酯压敏胶、聚氨酯压敏胶或有机硅压敏胶。
7.根据权利要求1所述的防蓝光防指纹光学保护膜，其特征在于：所述压敏胶层采用湿法精密涂布工艺形成，厚度为10~50μm。
8.根据权利要求1所述的防蓝光防指纹光学保护膜，其特征在于：所述离型膜为有机硅离型膜、有机氟类离型膜或薄膜基材，厚度为20~100μm。
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