[实用新型]一种双面曝光机有效

专利信息
申请号: 201721166358.7 申请日: 2017-09-11
公开(公告)号: CN207198551U 公开(公告)日: 2018-04-06
发明(设计)人: 刘东 申请(专利权)人: 杭州西风半导体有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司33109 代理人: 尉伟敏,王金兰
地址: 311100 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 双面 曝光
【权利要求书】:

1.一种双面曝光机,包括外壳(1),其特征在于,所述外壳(1)内设置有工作平台(12),所述工作平台(12)上设置有芯片夹具,所述芯片夹具内放置有下层光刻板(65)和上层光刻板(64),所述上层光刻板(64)和下层光刻板(65)之间放置有待曝光的晶闸管芯片(11),所述上层光刻板(64)的上部空间设置有上部曝光灯(8),所述下层光刻板的下部空间设置有下部曝光灯(3)。

2.根据权利要求1所述的双面曝光机,其特征在于,所述芯片夹具包括上板架(63)和下板架(62),所述上板架(63)和下板架(62)为中空结构,所述中空结构大于晶闸管芯片(11)的曝光尺寸,所述中空结构小于上层光刻板(64)和下层光刻板(65)的尺寸,所述上板架(63)和下板架(62)之间从上到下依次为上层光刻板(64)、晶闸管芯片(11)和下层光刻板(65)。

3.根据权利要求2所述的双面曝光机,其特征在于,所述芯片夹具还包括弹簧拉杆(66),所述弹簧拉杆(66)固定在下板架(62)上,所述弹簧拉杆(66)的一端为施力端(662),另一端为顶尖(661);

所述下板架设置有第一挡边(621)和第二挡边(622),所述第一挡边(621)与第二挡边(622)相交形成直角凹槽,所述上板架(63)设置在下板架的直角凹槽内,所述弹簧拉杆(66)的顶尖(661)与上板架(63)沿直角凹槽的对角线的另一端相抵触。

4.根据权利要求3所述的双面曝光机,其特征在于,所述上板架与弹簧拉杆顶尖相抵触的一端为平面结构。

5.根据权利要求1所述的双面曝光机,其特征在于,还包括导轨(5)和导轨支架(4),所述导轨(5)安装在导轨支架(4)上,所述导轨支架(4)安装在工作平台(12)上,所述导轨(5)与芯片夹具底座(61)滑动连接。

6.根据权利要求1所述的双面曝光机,其特征在于,还包括遮光板(10),所述遮光板(10)与芯片夹具底座(61)固定连接。

7.根据权利要求1所述的双面曝光机,其特征在于,还包括推拉门(7),所述推拉门(7)设置于外壳(1)的外侧,所述推拉门(7)与芯片夹具底座(61)固定连接。

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