[实用新型]一种双面曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及到曝光机技术领域,特别是一种双面曝光机。

背景技术

光刻工艺在整个半导体工艺过程中的工序复杂性，使得光刻技术的稳定性、可靠性和工艺成品率对产品的质量、成品率和成本有着重要影响。

目前,普通的光刻技术是在硅片的一面利用光刻胶的保护作用，对二氧化硅进行选择性化学腐蚀，从而在二氧化硅层上得到与光刻掩模版相应的图形。由于单面曝光,因此曝光效率低,效果差。

实用新型内容

本实用新型的目的提供一种双面曝光机，提高了生产效率。

为解决现有技术存在的问题，本实用新型提供一种双面曝光机,该双面曝光机包括外壳，所述外壳内设置有工作平台，所述工作平台上设置有芯片夹具，所述芯片夹具内放置有下层光刻板和上层光刻板，所述上层光刻板和下层光刻板之间放置有待曝光的晶闸管芯片，所述上层光刻板的上部空间设置有上部曝光灯，所述下层光刻板的下部空间设置有下部曝光灯。

本技术方案在待曝光芯片的上部空间设置有上部曝光灯，在待曝光芯片的下部空间设置有下部曝光灯，从而实现了芯片的双面曝光，提高了曝光效率。

优选的，所述芯片夹具包括上板架和下板架，所述上板架和下板架为中空结构，所述中空结构大于晶闸管芯片的曝光尺寸，所述中空结构小于上层光刻板和下层光刻板的尺寸，所述上板架和下板架之间从上到下依次为上层光刻板、晶闸管芯片和下层光刻版。

本技术方案的芯片夹具的上板架和下板架分别采用中空结构，并且中空结构的尺寸大于芯片的曝光尺寸，保证了芯片的充分曝光；另外，中空结构的尺寸小于上层光刻板和下层光刻板的尺寸，从而使上板架可以从上面压上层光刻板、芯片和下层光刻板，提高了结构的稳定性。

优选的，所述芯片夹具还包括弹簧拉杆，所述弹簧拉杆固定在下板架上，所述弹簧拉杆的一端为施力端，另一端为顶尖；

所述下板架设置有第一挡边和第二挡边，所述第一挡边与第二挡边相交形成直角凹槽，所述上板架设置在下板架的直角凹槽内，所述弹簧拉杆的顶尖与上板架沿直角凹槽的对角线的另一端相抵触。

本技术方案的下板架设置有第一挡边和第二挡边，并且采用弹簧拉杆对上板架的一端施加挤紧力，在弹簧拉杆的作用下上板架挤紧第一挡边和第二挡边，从而使上板架不会随意移动，提高了夹具的稳定性。

优选的，所述上板架与弹簧拉杆顶尖相抵触的一端为平面结构。从而增加了弹簧拉杆与端面的接触面积，增加了上板架的稳定性。

优选的，还包括导轨和导轨支架，所述导轨安装在导轨支架上，所述导轨支架安装在工作平台上，所述导轨与芯片夹具底座滑动连接。方便了夹具的移动。

优选的，还包括遮光板，所述遮光板与芯片夹具底座固定连接。提高了曝光机的曝光效率。

优选的，还包括推拉门，所述推拉门设置于外壳的外侧，所述推拉门与芯片夹具底座固定连接。方便了对芯片夹具的推拉。

本实用新型在待曝光芯片的上部空间设置有上部曝光灯，在待曝光芯片的下部空间设置有下部曝光灯，从而实现了芯片的双面曝光，提高了曝光效率。

附图说明

图1是本实用新型一种双面曝光机的一种实施例的示意图;

图2是本实用新型一种双面曝光机的芯片夹具的一种实施例的示意图；

图3是图2的A-A剖视图。

图中：

1.外壳, 2.电箱，3.下部曝光灯，4.导轨支架，5.导轨，6.芯片夹具，61.芯片夹具底座，62.下板架，621.第一挡边，622.第二挡边，63.上板架，64.上层光刻板，65.下层光刻板，66.弹簧拉杆，661.尖端，662.施力端，67.紧固件，7.推拉门，8.上部曝光灯，9.风机，10.遮光板，11.芯片，12.工作平台。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行详细说明。

如图1-3所示，该曝光机包括外壳1、电箱2、下部曝光灯3、导轨支架4、导轨5、芯片夹具6、推拉门7、上部曝光灯8、风机9、遮光板10。其中，外壳1内设置有工作平台12，工作平台12上固定有导轨支架4，导轨支架4上安装有导轨5，芯片夹具6与导轨5滑动连接。下部曝光灯3设置在工作平台的下部，下部曝光灯3所在的位置与放置在芯片夹具中的待曝光的芯片的位置相对应，方便了芯片下表面的曝光；相应的上部曝光灯8设置在工作平台的上部，该上部曝光灯8所在的位置与芯片上表面相对应，方便上部曝光灯8对芯片上表面进行曝光处理。