[实用新型]晶圆检查设备的清洗装置有效
| 申请号： | 201721169210.9 | 申请日： | 2017-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN208033112U | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 郑瑞峰 | 申请（专利权）人： | 亚亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/04 | 分类号： | B08B1/04;B08B1/00;B08B5/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 集水槽 滚筒 检查设备 清洗装置 残留余液 晶圆背面 晶圆检测 出水孔 入水孔 晶圆 枢接 种晶 | ||
1.一种晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，该清洗装置包含：
一基座，具有一集水槽；该基座于该集水槽内具有一第一入水孔和一第一出水孔；以及
一滚筒，枢接在该基座，该滚筒部分没入该集水槽，该滚筒具有一滚轴和一刷筒，该滚轴枢接该基座，该刷筒套设在该滚轴。
2.如权利要求1所述的晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，该刷筒的制作材料为海绵。
3.如权利要求1所述的晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，该刷筒外围设有刷毛。
4.如权利要求1所述的晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，更包含一第一刮板，设置在该基座，该第一刮板位于该集水槽上方。
5.如权利要求4所述的晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，该第一刮板具有一斜面，该斜面朝靠近该滚筒方向倾斜。
6.如权利要求4所述的晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，该集水槽分出一第一副集水槽和一第二副集水槽，该基座于该第一副集水槽内具有该第一入水孔和该第一出水孔；该基座于该第二副集水槽内具有一第二出水孔；该滚筒部分没入该第一副集水槽；该第一刮板位于该第二副集水槽上方。
7.如权利要求1所述的晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，更设有一第三集水槽位于该集水槽下方。
8.如权利要求4所述的晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，该第一刮板和该滚筒之间设有一导水板，该导水板顶面朝靠近该第一刮板方向倾斜。
9.如权利要求1所述的晶圆检查设备的清洗装置，其特征在于，更设有一第二刮板和一风刀。
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