[实用新型]晶圆检查设备的清洗装置有效
申请号: | 201721169210.9 | 申请日: | 2017-09-13 |
公开(公告)号: | CN208033112U | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 郑瑞峰 | 申请(专利权)人: | 亚亚科技股份有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04;B08B1/00;B08B5/02;H01L21/67 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;鲍俊萍 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集水槽 滚筒 检查设备 清洗装置 残留余液 晶圆背面 晶圆检测 出水孔 入水孔 晶圆 枢接 种晶 | ||
一种晶圆检查设备的清洗装置,包含基座,具有集水槽,该基座于该集水槽内具有第一入水孔和第一出水孔,以及滚筒,枢接在基座,滚筒部分没入集水槽。由此,在晶圆检测完后,经过滚筒刷洗,可确实减少晶圆背面上残留余液的机会。
技术领域
本实用新型与晶圆检查设备有关,特别是指一种晶圆检查设备的清洗装置。
背景技术
对于晶圆背面切割道检查而言,已有中国台湾申请号第101147513号专利的技术克服影像不清晰的问题,其是运用浸润液体的折射率和蓝膜的折射率匹配达成获得清晰影像的功效。此外,另有中国台湾申请号第102119748号专利的技术,让检测机台在检测时具有足够的浸润液体,并且排放多余的浸润液体。
然而,运用上述技术的检测机台从晶圆背面检测晶圆之后,因为晶圆背面仍有可能残留浸润液体,所以需要增设检测机台的清洗装置,藉此,减少晶圆背面存有余液的机会,以免沾染粉尘污染接下来的工艺。
实用新型内容
针对前述问题,本实用新型的目的在于提供一种晶圆检查设备的清洗装置,以减少受测晶圆上的晶圆背面存有余液的机会。
为了达成上述目的,本实用新型提供一种晶圆检查设备的清洗装置,包含一基座,具有一集水槽;该基座于该集水槽内具有一第一入水孔和一第一出水孔,以及一滚筒,枢接在该基座,该滚筒部分没入该集水槽。
值得一提的是,该滚筒具有一滚轴和一刷筒,该滚轴枢接该基座,该刷筒套设在该滚轴,以方便更换该刷筒。此外,该刷筒的制作材料为海绵。
另外,该刷筒外围设有刷毛。
更佳地,更包含一第一刮板,设置在该基座,该第一刮板位于该集水槽上方。此外,该第一刮板具有一斜面,该斜面朝靠近该滚筒方向倾斜,由此导引液体在该第一刮板上的流动方向。
另外,该集水槽分出一第一副集水槽和一第二副集水槽,该基座于该第一副集水槽内具有该第一入水孔和该第一出水孔;该基座于该第二副集水槽内具有一第二出水孔;该滚筒部分没入该第一副集水槽;该第一刮板位于该第二副集水槽上方。
此外,更设有一第三集水槽位于该集水槽下方,再收集该第一副集水槽和该第二副集水槽所没收集到的液体。
还可以在该第一刮板和该滚筒之间设有一导水板,该导水板顶面朝靠近该第一刮板方向倾斜,协助导引从该第一刮板喷离的液体。
另外,更设有一第二刮板和一风刀,由此再通过该第二刮板刮除晶圆背面上的余液,以及透过风刀将晶圆背面上的余液吹除。
本实用新型的有益效果:
通过本实用新型晶圆检查设备的清洗装置,在晶圆检测完后,经过滚筒刷洗,可确实减少晶圆背面上残留余液的机会。
附图说明
图1为本实用新型第一实施例的立体图;
图2为本实用新型第二实施例的立体图;
图3为本实用新型第二实施例的侧视图;
图4为本实用新型第三实施例的立体图;
图5为本实用新型第三实施例的立体图;
图6为本实用新型第三实施例的部分立体图,显示移开导水板;以及
图7为本实用新型第四实施例的立体图,显示第二刮板和风刀。
其中,附图标记:
11基座
111第一副集水槽
112第二副集水槽
113第一入水孔
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