[实用新型]清洁装置有效

专利信息
申请号: 201721171331.7 申请日: 2017-09-13
公开(公告)号: CN207204676U 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 彭金宝;张伟 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B08B1/02 分类号: B08B1/02
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,刘伟
地址: 230012 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种清洁装置,用于对基板的待清洁面进行清洁,其特征在于,包括:至少一个滚轮结构,所述滚轮结构的内部具有一容纳空间,所述滚轮结构的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔,所述滚轮结构的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口,所述滚轮结构的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层。

2.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述滚轮结构由多个连接板拼接形成,每个所述连接板包括构成所述滚轮结构外周面的曲面结构,所述曲面结构在其弯曲方向上的相对的两侧具有缺口,相邻两个连接板上的缺口合围形成所述清洗液出口。

3.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述清洗液出口为条形结构。

4.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述清洗层为棉布。

5.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,还包括用于控制所述滚轮结构旋转的旋转结构。

6.根据权利要求5所述的清洁装置,其特征在于,所述滚轮结构具有1个时,所述清洁装置还包括:

检测单元,用于检测所述基板的位置,并在所述基板的第一端与所述滚轮结构之间的距离为第一预设距离时发出第一信号,在所述基板的第二端与所述滚轮结构的距离为第二预设距离时发出第二信号;

控制单元,用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔连接的供液结构进行供液,根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

7.根据权利要求5所述的清洁装置,其特征在于,所述滚轮结构具有至少2个时,沿着基板的行进方向,所述滚轮结构包括与最先与基板接触的首端滚轮结构和最后与基板接触的末端滚轮结构,所述清洁装置还包括:

检测单元,用于检测所述基板的位置,并在所述基板的第一端与所述首端滚轮结构之间的距离为第一预设距离时发出第一信号,在所述基板的第二端与所述末端滚轮结构的距离为第二预设距离时发出第二信号;

控制单元,用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔连接的供液结构进行供液,根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

8.根据权利要求6或7所述的清洁装置,其特征在于,所述控制单元还用于根据所述信号控制所述旋转结构工作,以控制所述滚轮结构旋转。

9.根据权利要求8所述的清洁装置,其特征在于,还包括挡液结构,与所述滚轮结构相对设置,当基板位于所述滚轮结构上进行清洁时,所述挡液结构位于所述基板远离所述待清洁面的一侧。

10.根据权利要求9所述的清洁装置,其特征在于,所述挡液结构为帘状结构。

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