[实用新型]清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示产品制作技术领域，尤其涉及一种清洁装置。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器(thin film transistor-liquid crystal display，TFT-LCD)行业中，彩膜基板作为不可或缺的一部分，对其背面的品质要求也越来越高。彩膜基板的背面品质，对on-cell(将触摸屏嵌入到显示屏的彩膜基板和偏光片之间的技术方法)、sliming(减薄)等工艺的制程良率影响都有决定性的作用。

彩膜制作、组装等工艺中，彩膜基板背面会一直接触滚轮、承载平台等，造成轮印、脏污等异物。然而，针对这类不良并没有好的办法加以解决，通过清水或棉刷的清洁都不足以达到彩膜基板背面高品质要求。利用碱性液体清洁基板的轮印、脏污是比较高效的一种方法，但受限于碱液影响膜面品质的问题，该法未能得以使用。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种清洁装置，通过清洗液对基板的待清洁面进行清洗，且不会影响基板的与待清洁面相对的一面。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种清洁装置，用于对基板的待清洁面进行清洁，包括：至少一个滚轮结构，所述滚轮结构的内部具有一容纳空间，所述滚轮结构的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔，所述滚轮结构的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口，所述滚轮结构的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层。

进一步的，所述滚轮结构由多个连接板拼接形成，每个所述连接板包括构成所述滚轮结构外周面的曲面结构，所述曲面结构在其弯曲方向上的相对的两侧具有缺口，相邻两个连接板上的缺口合围形成所述清洗液出口。

进一步的，所述清洗液出口为条形结构。

进一步的，所述清洗层为棉布。

进一步的，还包括用于控制所述滚轮结构旋转的旋转结构。

进一步的，所述滚轮结构具有1个时，所述清洁装置还包括：

检测单元，用于检测所述基板的位置，并在所述基板的第一端与所述滚轮结构之间的距离为第一预设距离时发出第一信号，在所述基板的第二端与所述滚轮结构的距离为第二预设距离时发出第二信号；

控制单元，用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔连接的供液结构进行供液，根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

进一步的，所述滚轮结构具有至少2个时，沿着基板的行进方向，所述滚轮结构包括与最先与基板接触的首端滚轮结构和最后与基板接触的末端滚轮结构，所述清洁装置还包括：

检测单元，用于检测所述基板的位置，并在所述基板的第一端与所述首端滚轮结构之间的距离为第一预设距离时发出第一信号，在所述基板的第二端与所述末端滚轮结构的距离为第二预设距离时发出第二信号；

控制单元，用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔连接的供液结构进行供液，根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

进一步的，所述控制单元还用于根据所述信号控制所述旋转结构工作，以控制所述滚轮结构旋转。

进一步的，还包括挡液结构，与所述滚轮结构相对设置，当基板位于所述滚轮结构上进行清洁时，所述挡液结构位于所述基板远离所述待清洁面的一侧。

进一步的，所述挡液结构为帘状结构。

本实用新型的有益效果是：通过清洗液对基板的待清洁面进行清洗，但不会影响基板上与待清洁面相对的一面。

附图说明

图1表示本实用新型实施例中清洁装置结构示意图；

图2表示本实用新型实施例中滚轮结构示意图；

图3表示本实用新型实施例中一实施方式中清洁装置使用状态示意图；

图4表示本实用新型实施例中另一实施方式中清洁装置使用状态示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的特征和原理进行说明，所举实施例仅用于解释本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。

如图1-4所示，本实施例提供一种清洁装置，用于对基板10的待清洁面进行清洁，包括：至少一个滚轮结构1，所述滚轮结构1的内部具有一容纳空间，所述滚轮结构1的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔13，所述滚轮结构1的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口12，所述滚轮结构1的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层2。