[实用新型]一种用于CVD设备的过滤装置

说明书

技术领域

本实用新型属于半导体CVD技术领域，特别涉及一种用于CVD设备的过滤装置。

背景技术

半导体CVD（化学气相沉积）工艺中会产生很多粉尘，这些粉尘会对尾气端的真空系统产生污染和堵塞，所以在CVD设备的反应室出口端需要增加颗粒过滤器，把产生的粉尘过滤干净。

目前的颗粒过滤器是采用传统的纸质滤芯过滤装置，传统的纸质过滤装置只有粗滤和精馏两级滤筒，这种过滤器使用一段时间后就会发生堵塞，导致过滤器的使用周期缩短，需要经常更换，否则会导致反应室真空度失控，或者过压，影响机台的稼动率及稳定性。且每次更换滤芯也会造成成本上升。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种改进的用于CVD设备的过滤装置。

为解决以上技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种用于CVD设备的过滤装置，所述CVD设备具有反应室，所述过滤装置包括进气管、过滤器单元、出气管和真空泵，所述进气管的一端与所述反应室相连，所述出气管的一端与所述过滤器单元的出气口相连、另一端与所述真空泵相连，所述过滤装置还包括具有内腔的沉积桶，所述沉积桶的进气口与所述进气管的另一端相连，所述沉积桶的出气口与所述过滤器单元的进气口相连，所述沉积桶内固定设置有水冷盘管。

进一步地，所述沉积桶的进气口设置在所述沉积桶的顶部，所述沉积桶的出气口设置在所述沉积桶的侧部。

进一步地，所述沉积桶的底部设置有排尘孔。

优选地，所述沉积桶为不锈钢桶。

优选地，所述水冷盘管为螺旋盘管，其在所述沉积桶内沿上下方向延伸设置。

根据本实用新型的一些优选实施方案，所述过滤器单元包括串联连接的粗过滤器和精过滤器，所述粗过滤器使用的滤芯孔径大于所述精过滤器使用的滤芯孔径，所述粗过滤器的进气口与所述沉积桶的出气口相连，所述粗过滤器的出气口与所述精过滤器的进气口相连，所述精过滤器的出气口与所述出气管的所述一端相连。

进一步优选地，所述粗过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为10~25微米。

进一步优选地，所述精过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米。

根据本实用新型的一些优选实施方案，所述过滤器单元包括多个并联连接的精过滤器，各所述精过滤器的进气口分别与所述沉积桶的出气口相连，各所述精过滤器的出气口分别与所述出气管的所述一端相连。

进一步优选地，所述精过滤器的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米。

由于上述技术方案的实施，本实用新型与现有技术相比具有如下优点：

本实用新型的过滤装置在过滤器单元和反应室之间设置沉积桶，反应室内带有粉尘的气体在沉积桶内在重力作用下，大部分的大颗粒粉尘沉积到沉积桶的底部，气体然后进入过滤器单元进行进一步过滤，如此进入到后期过滤器内的气体，粉尘量大大降低，能够提高了过滤器的使用周期和单组滤芯的利用率，进而提高了设备的稳定性及稼动率，提高产量，也降低了生产成本。

附图说明

图1为本实用新型的实施例1的过滤装置的结构示意图。

图中：1、进气管；2、出气管；3、沉积桶；4、水冷盘管；5、精过滤器；6、滤芯。

具体实施方式

下面结合说明书附图对本实用新型进行进一步说明。

实施例1

如图1所示，本实施例提供的用于CVD设备的过滤装置，CVD设备具有反应室，该过滤装置包括进气管1、过滤器单元、出气管2和真空泵，进气管1的一端与反应室相连，出气管2的一端与过滤器单元的出气口相连、另一端与真空泵相连，该过滤装置还包括具有内腔的沉积桶3，沉积桶3的进气口与进气管1的另一端相连，沉积桶3的出气口与过滤器单元的进气口相连，沉积桶3内固定设置有水冷盘管4。

本例中，沉积桶3的进气口设置在沉积桶3的顶部，沉积桶3的出气口设置在沉积桶3的侧部，具体地，沉积桶3的出气口设置在沉积桶3的侧部下方；沉积桶3的底部还设置有排尘孔。沉积桶3通常为不锈钢桶。

本例中，水冷盘管4为螺旋盘管，其在沉积桶3内沿上下方向延伸设置。

本例中，如图1所示，过滤器单元包括多个并联连接的精过滤器5，各精过滤器5的进气口分别与沉积桶3的出气口相连，各精过滤器5的出气口分别与出气管2的一端相连，出气管2的另一端与真空泵相连。具体地，精过滤器5的滤芯为聚酯滤芯，孔径为2~8微米，优选为5微米。