[实用新型]一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置

权利要求书

1.一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，包括安装架、臭氧发生器、输气管、稳流筒、等压储气罐、连接头、连接管、喷头、储气罐、控制器，其特征在于：所述安装架上部设置稳流筒，下部设置等压储气罐，稳流筒的下部和等压储气罐的上部分别设置一一对应的连接头，且相对应的两个连接头通过连接管连接：所述等压储气罐下部安装喷头；所述臭氧发生器通过输气管连接稳流筒，且在输气管上设置储气罐。

2.根据权利要求1所述的一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，其特征在于：所述喷头中部设置贯穿喷头顶面与底面的喷头出气缝。

3.根据权利要求1所述的一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，其特征在于：在储气罐与稳流筒之间的输气管上安装电磁阀，且该装置设施有控制电磁阀与臭氧发生器的控制器。

4.根据权利要求1所述的一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，其特征在于：所述等压储气罐上设置气压测量监测器，气压测量监测器连接控制器。

5.根据权利要求1至4中任一项权利要求所述的一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，其特征在于：所述喷头与等压储气罐之间为可拆卸连接。

6.根据权利要求5所述的一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，其特征在于：等压储气罐下部设置安装卡头，安装卡头的中部设置用于卡装喷头的安装卡槽；该安装卡头的下部两侧设置滑槽，对应地在喷头的两侧设置滑条。

7.根据权利要求6所述的一种可抗PID的硅片表面镀膜臭氧喷射装置，其特征在于：所述安装卡头位于安装卡槽右侧的部分为独立设置的活动压块，且在该侧有固定件设置在安装卡头上，活动压块位于固定件和喷头之间，且在固定件上设置用于调整活动压块的螺栓。