[实用新型]一种有机真空镀膜掩膜装置

说明书

本实用新型涉及一种有机真空镀膜掩膜装置，包括样品架和若干均布设置在样品架上的掩膜板系统；所述样品架包括样品旋转轴和旋转盘，所述样品旋转轴上端通过通孔贯穿真空室上盖，所述通孔上设置有磁流体密封装置，所述样品旋转轴上端连接有步进电机，所述步进电机上设置有定位装置；所述掩膜板系统包括升降轴、掩膜板座和掩膜板，所述升降轴从下往上依次设置有掩膜板座、旋转盘、导向套、弹簧和机械手引导块，所述真空室上盖还贯穿设置有真空机械手；本实用新型采用公转系统与自转系统相结合，能够保证掩模板与被镀膜样品的紧密接触且在切换过程中不刮伤样品及膜层，可以一次制备多个样品，极大的提高了样品制备效率。

技术领域

本实用新型涉及镀膜装置领域，尤其涉及一种有机真空镀膜掩膜装置。

背景技术

有机真空镀膜掩膜装置，目前主要应用于有机物真空蒸发镀膜中，如在制备有机电致发光材料膜层时，需要在样品表面利用真空镀膜的方式沉积多层不同材料成分的膜层，且各膜层需按照特定图案沉积，这就需要在真空环境下进行掩膜板切换。在切换时需要保证样品表面不被刮伤，在切换的前、后，样品与掩模板之间能够紧密接触。目前，常用于有机真空镀膜的掩膜结构均采用水平插入的方式。这种结构在实际操作中，若是将掩模板与样品接触过于紧密，在切换时容易造成对膜层的损伤，如刮痕等；若为了在切换掩模板时避免刮伤样品，将样品与掩模板间留有一定空隙，这样在镀膜时，会使得图案边界模糊，分界不清晰，难以获得优质膜层。关于真空机械手，目前常用的是采用波纹管或胶圈密封的方式获得：波纹管本身具有一定的变形量，通过其变形量获得位移，这种方式不仅结构复杂，需增加导向等装置，而且位移量有限；胶圈密封结构可以获得大的位移量，但真空密封性能不好，难以获得超高真空。此外，这两种结构均不能同时实现直线运动和旋转运动。

基于此，需要一种防止切换时损伤膜层并且便于操作能够获得优质膜层的有机真空镀膜掩膜装置被设计出来。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足，得到一种防止切换时损伤膜层并且便于操作能够获得优质膜层的有机真空镀膜掩膜装置。

本实用新型是通过以下技术方案实现：

一种有机真空镀膜掩膜装置，包括样品架和若干均布设置在样品架上的掩膜板系统；

所述样品架包括样品旋转轴和设置在样品旋转轴下端的旋转盘，所述样品旋转轴上端通过通孔贯穿真空室上盖，所述通孔上设置有磁流体密封装置，所述样品旋转轴上端连接有步进电机，所述步进电机上设置有定位装置，所述旋转盘上设置有与掩膜板系统对应的若干样品座，所述样品座内放置样品，所述样品上方放置有压块；

所述掩膜板系统包括升降轴、与样品座相配合并设置在旋转盘下方的掩膜板座和放置在掩膜板座内的掩膜板，所述升降轴从下往上依次设置有掩膜板座、旋转盘、导向套、弹簧和机械手引导块，所述升降轴与掩膜板座和旋转盘可转动连接，所述机械手引导块固定在升降轴上端；

其中，所述真空室上盖还贯穿设置有真空机械手，所述真空机械手到样品旋转轴的距离与机械手引导块到样品旋转轴的距离等距。

进一步地，所述定位装置由光电开关控制。

进一步地，所述真空机械手采用磁力驱动结构。

更进一步地，所述磁力驱动机构由内磁环与外磁环组成。

进一步地，所述机械手引导块与升降轴上端为过盈配合。

与现有的技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过磁流体密封装置作为真空动密封，传递动力，满足了真空镀膜对超高真空的要求；

2、本实用新型利用步进电机作为动力源、光电开关组成定位系统，使得系统运行稳定、可靠；