[实用新型]真空镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201721331755.5 申请日: 2017-10-16
公开(公告)号: CN207243986U 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 杨斌 申请(专利权)人: 君泰创新(北京)科技有限公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26;C23C14/54
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司11252 代理人: 周放,姜溯洲
地址: 100176 北京市大兴区北京经*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 真空镀膜 设备
【权利要求书】:

1.一种真空镀膜设备,包括用于镀膜的工作腔,所述工作腔的顶部设置有开口,所述工作腔的内部用于容置基板,其特征在于,所述真空镀膜设备还包括:

顶盖,封堵所述开口;所述顶盖朝向所述工作腔内部的一侧设置有加热丝;

第一温度传感器,设置在所述工作腔的顶部;

第二温度传感器,设置在所述工作腔的底部。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第一温度传感器和/或所述第二温度传感器为热电偶。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述顶盖与所述开口之间通过密封垫密封固定。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述工作腔包括加热腔、工艺腔和冷却腔。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第一温度传感器与所述工作腔的底部具有设定的距离。

6.根据权利要求1-5任一项所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二温度传感器的数量是一个或多个。

7.根据权利要求1-5任一项所述的真空镀膜设备,其特征在于,还包括进片腔和出片腔。

8.根据权利要求1-5任一项所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述加热丝焊接在所述顶盖上。

9.根据权利要求1-5任一项所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二温度传感器焊接在所述工作腔的底部;

或所述第一温度传感器缠绕固定在所述加热丝上。

10.根据权利要求1-5任一项所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述工作腔的底部设置有安装孔,所述第二温度传感器通过螺栓固定在所述安装孔中。

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