[实用新型]阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机

权利要求书

1.一种阴极弧靶装置，其特征在于：包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上。

2.一种真空多弧离子镀膜机，其特征在于，包括：

真空多弧离子镀膜系统，包括真空镀膜室及真空镀膜室内的阴极弧靶装置和工件架，在真空多弧离子镀膜系统启动之后，阴极弧靶装置的靶材表面产生电弧，发射金属蒸气，金属蒸气中的原子电离成正离子，正离子在真空镀膜室内运行时与反应气体离子结合，沉积在工件架的工件表面形成薄膜；所述阴极弧靶装置包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上；

抽真空系统，包括第一旋片泵、罗茨泵和分子泵；所述第一旋片泵用于对真空镀膜室进行一级抽真空，第一旋片泵的进气口连通罗茨泵的出气口；所述罗茨泵用于对真空镀膜室进行二级抽真空，罗茨泵的进气口连通分子泵的出气口；所述分子泵用于对真空镀膜室进行三级抽真空，分子泵的进气口连通真空镀膜室的出气口；

控制系统，用于控制真空多弧离子镀膜系统及抽真空系统的工作运转。

3.根据权利要求2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述真空镀膜室设有真空室门，真空室门通过铰链安装在真空镀膜室一侧，真空室门上设置有观察窗及把手。

4.根据权利要求2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述阴极弧靶装置包括圆柱磁控靶装置和/或平面磁控靶装置。

5.根据权利要求2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述真空镀膜室设有若干加热器，用于镀膜时对真空镀膜室加热。

6.根据权利要求2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述抽真空系统还包括第二旋片泵，所述第二旋片泵用于为分子泵提供真空工作环境，所述分子泵设置有三组。

7.根据权利要求2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：所述分子泵与真空镀膜室之间设置有截流阀。

8.根据权利要求2～7中任意一项所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于：还包括水冷系统，用于对真空多弧离子镀膜系统及抽真空系统进行散热降温。