[实用新型]阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机，其中，阴极弧靶装置包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上。本实用新型阴极弧靶装置密封性好、不发生真空泄漏、维护容易、寿命长、结构简单、可靠实用。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，特别涉及一种阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机。

背景技术

真空多弧离子镀膜机作为真空涂层的生产设备，当前已经被广泛应用到工业化生产中，阴极弧靶作为镀膜机的核心部件，其稳定性和可靠性直接关系到整个生产系统的稳定性以及产品质量的稳定性。阴极弧靶装置中，驱动引弧部分的滑动真空密封基本上均采用传统的油封密封或O形橡胶圈密封，此种密封的结构比较复杂、维护周期短、密封材料的材质要求高、机械加工精度要求较高。即使这样，引弧部分的滑动真空密封部分时常还会因为种种原因产生真空泄漏，严重影响到生产的稳定性和产品质量的可靠性。除此之外，在现在真空多弧离子镀膜机中，还存在抽真空效率慢、真空度难以保证的问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是根据上述现有技术的不足，提供一种密封性好、不发生真空泄漏、维护容易、寿命长、结构简单、可靠实用的阴极弧靶装置；为此本实用新型还要提供一种采用该阴极弧靶装置的真空多弧离子镀膜机。

为解决上述第一个技术问题，本实用新型的技术方案是：一种阴极弧靶装置，包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上。

为解决上述第二个技术问题，本实用新型的技术方案是：一种真空多弧离子镀膜机，包括：

真空多弧离子镀膜系统，包括真空镀膜室及真空镀膜室内的阴极弧靶装置和工件架，在真空多弧离子镀膜系统启动之后，阴极弧靶装置的靶材表面产生电弧，发射金属蒸气，金属蒸气中的原子电离成正离子，正离子在真空镀膜室内运行时与反应气体离子结合，沉积在工件架的工件表面形成薄膜；所述阴极弧靶装置包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上；

抽真空系统，包括第一旋片泵、罗茨泵和分子泵；所述第一旋片泵用于对真空镀膜室进行一级抽真空，第一旋片泵的进气口连通罗茨泵的出气口；所述罗茨泵用于对真空镀膜室进行二级抽真空，罗茨泵的进气口连通分子泵的出气口；所述分子泵用于对真空镀膜室进行三级抽真空，分子泵的进气口连通真空镀膜室的出气口；

控制系统，用于控制真空多弧离子镀膜系统及抽真空系统的工作运转。

优选地，所述真空镀膜室设有真空室门，真空室门通过铰链安装在真空镀膜室一侧，真空室门上设置有观察窗及把手。

优选地，所述阴极弧靶装置包括圆柱磁控靶装置和/或平面磁控靶装置。

优选地，所述真空镀膜室设有若干加热器，用于镀膜时对真空镀膜室加热。

优选地，所述抽真空系统还包括第二旋片泵，所述第二旋片泵用于为分子泵提供真空工作环境，所述分子泵设置有三组。