[实用新型]一种可旋转的PECVD镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种可旋转的PECVD镀膜装置，所述镀膜装置具有一矩形的镀膜空腔，镀膜空腔的前端开口且开口铰接有一可打开的密封门，镀膜空腔的左右侧壁分别固定安装有正对设置的阳极电极板和阴极电极板，所述阳极电极板连接射频电源，所述阴极电极板接地，所述镀膜空腔上下壁之间设置有丝杆，所述丝杆的一端连接一驱动马达，所述丝杆上设置有相配的可上下移动的工件托盘，所述工件托盘包括一个可旋转的大盘和设置于大盘上多个可旋转的小盘，本实用新型的有益效果在于，本镀膜装置能够使待加工产品发生自转、公转、升降复合运动，待加工产品在腔体内充分的接触纳米材料，形成了比较致密和均匀的纳米涂层，涂层的质量有了较大的改善。

技术领域

本实用新型属于PECVD设备领域，更具体地说，是指一种可旋转的PECVD镀膜装置。

背景技术

PECVD（等离子体增强化学气相沉积）通过等离子放电产生活性基团来促进薄膜生成的反应，能显著降低CVD薄膜制备的温度，使某些原本需要在高温下进行的CVD镀膜反应可以在较低温度下进行。

PECVD所使用的设备包含电极板，目前PECVD设备镀膜腔体为固定结构，镀膜时，将待镀膜产品放入到镀膜腔体内的层架上，进行镀膜，目前在实际的纳米镀膜过程中，发现镀膜产品上的纳米薄膜厚度不一，不够均匀，一致性较差，某些区域可能膜层缺失，因此急需对设备进行改进以避免这种不良现象。

实用新型内容

本实用新型为了克服现有技术之不足，提出了一种可旋转的PECVD镀膜装置。

本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的。

一种可旋转的PECVD镀膜装置，所述镀膜装置内部设有一矩形镀膜空腔，镀膜空腔的前端开口且开口铰接有一可打开的密封门，镀膜空腔的左右侧壁分别固定安装有正对设置的阳极电极板和阴极电极板，所述阳极电极板连接射频电源，所述阴极电极板接地，所述镀膜空腔上下壁之间设置有丝杆，所述丝杆的一端连接一驱动马达，所述丝杆上设置有相配的可上下移动的工件托盘，所述工件托盘包括一个可旋转的大盘和设置于大盘上多个可旋转的小盘。

更具体的，所述工件托盘的数量有多个，呈上下间隔的连接至丝杆。

更具体的，所述工件托盘包括底座，所述底座通过一推力轴承支撑起所述的大盘，所述大盘由一大盘电机及传动齿轮驱动发生旋转，所述大盘的上表面开设有多个小盘安装槽，所述多个小盘安装槽内通过多个推力轴承支撑起多个小盘，每个小盘由一个小盘电机驱动发生旋转。

本实用新型的有益效果在于，本镀膜装置能够使待加工产品发生自转、公转、升降等多种复合运动，待加工产品在腔体内充分的接触电离后的纳米材料，在产品表面形成了比较致密和均匀的纳米涂层，涂层的质量有了较大的改善，可以达到较高程度的防水等级。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为镀膜空腔内工件托盘的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图给出本实用新型较佳实施例，以详细说明本实用新型的技术方案。

如图1至图2，实施例为一种可旋转的PECVD镀膜装置，所述PECVD装置具有一矩形的镀膜空腔，镀膜空腔的前端开口且开口铰接有一可打开的密封门，镀膜空腔的左右侧壁（1，3）分别固定安装有正对设置的阳极电极板11和阴极电极板33，所述阳极电极板11连接射频电源，所述阴极电极板33接地，所述镀膜空腔上下壁（2，4）之间设置有纵向延伸的丝杆23，所述丝杆23的一端连接一驱动马达（图中下壁4的下方，未示出），所述丝杆23上设置有相配的可上下移动的工件托盘110，所述工件托盘110包括一个可旋转的大盘10和设置于大盘上四个可旋转的小盘。