[实用新型]一种高密度陶瓷靶材生胚的制造装置

权利要求书

1.一种高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，包括圆筒状的靶材(100)、设于靶材(100)下方的垫块(500)，其特征在于：

还包括有沿垂直方向设置的悬杆(200)，所述悬杆(200)穿设于所述靶材(100)内；所述垫块(500)下方设有滚筒层(600)，所述悬杆(200)的底端往下贯穿所述垫块(500)、且端部与所述滚筒层(600)连接。

2.如权利要求1所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述滚筒层(600)包括至少三条滚筒悬臂(201)，所述滚筒悬臂(201)绕所述悬杆(200)等间距设置；所述滚筒悬臂(201)包括有支架以及若干滚筒(202)，所述支架一端与所述悬杆(200)连接，所述滚筒(202)的两端与所述支架转动连接。

3.如权利要求2所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述滚筒(202)沿支架等间距设置，两相邻所述滚筒(202)之间的间距为1cm-1.5cm。

4.如权利要求1所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述垫块(500)与所述靶材(100)之间设有耐高温砂层(400)。

5.如权利要求4所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述耐高温砂层(400)的顶端面面积等于或大于所述靶材(100)的底端面面积，所述垫块(500)顶端面面积大于所述耐高温砂层(400)底端面面积。

6.如权利要求1所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述垫块(500)的材质与所述靶材(100)的材质相同。

7.如权利要求1所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述靶材(100)的顶端设有用于限定所述靶材(100)位置的盖板(300)，所述悬杆(200)上端贯穿所述盖板(300)。

8.如权利要求7所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述盖板(300)设有限位槽(301)，所述限位槽(301)与所述靶材(100)顶端配合。

9.如权利要求8所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述限位槽(301)的宽度至少为所述靶材(100)侧壁宽度的两倍。

10.如权利要求9所述的高密度陶瓷靶材生胚的制造装置，其特征在于，所述盖板(300)的材质与所述靶材(100)的材质相同。