[实用新型]一种抗紫外线量子点膜

权利要求书

1.一种抗紫外线量子点膜，其特征在于：包括量子点层(10)、水氧阻隔层(20)和紫外线阻隔层(30)；

所述量子点层(10)的两侧均依次设置有所述水氧阻隔层(20)和紫外线阻隔层(30)，或所述量子点层(10)的两侧均依次设置有所述紫外线阻隔层(30)和水氧阻隔层(20)；

其中，所述量子点层(10)厚度为10～100微米，所述水氧阻隔层(20)厚度为12～125微米，所述紫外线阻隔层(30)厚度为25～100微米。

2.根据权利要求1所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述紫外线阻隔层(30)为涂层或聚合物薄膜；所述涂层或聚合物薄膜内设有纳米金属氧化物粉体(31)。

3.根据权利要求2所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述纳米金属氧化物粉体(31)包括氧化锌纳米粉体、铝掺杂的氧化锌纳米粉体、氧化铟锡纳米粉体、氧化锑锡纳米粉体、氟掺杂氧化锡纳米粉体、多元掺杂氧化锡纳米粉体和三氧化钨纳米粉体中的一种。

4.根据权利要求1所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述紫外线阻隔层(30)为金属氧化物镀层。

5.根据权利要求1所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述紫外线阻隔层(30)为涂层或聚合物薄膜；所述涂层或聚合物薄膜内含有紫外线吸收剂。

6.根据权利要求5所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述紫外线吸收剂包括苯并三唑类化合物、三嗪类化合物、二苯甲酮类化合物中的一种。

7.根据权利要求1所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述紫外线阻隔层(30)为含有不饱和键或芳环的聚合物薄膜。

8.根据权利要求7所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述不饱和键或芳环的聚合物薄膜包括芴-三苯胺共聚物薄膜、苯并二噁唑类聚合物薄膜、苯并噻唑类聚合物薄膜、聚萘二甲酸酯类聚合物薄膜、三醋酸纤维素薄膜、聚酰亚胺薄膜中的一种。

9.根据权利要求1所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述量子点层(10)的厚度为20～50微米。