[实用新型]一种抗紫外线量子点膜有效

专利信息
申请号: 201721391463.0 申请日: 2017-10-26
公开(公告)号: CN207449308U 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 陈凯武 申请(专利权)人: 厦门玻尔科技有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B32B33/00;B32B27/28;B32B27/36;B32B23/20;B32B23/04;C09D7/63;C09D7/61
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 梁雪娇
地址: 361115 福建省厦门市火炬高新区(翔安*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 量子点 紫外线阻隔 水氧阻隔层 量子点层 抗紫外线 本实用新型 依次设置 聚合物材料 光学性能 力学性能 透光性能 层厚度 膜表面 紫外线 保证
【说明书】:

本实用新型提供一种抗紫外线量子点膜,包括量子点层、水氧阻隔层和紫外线阻隔层;量子点层的两侧均依次设置有水氧阻隔层和紫外线阻隔层,或量子点层的两侧均依次设置有紫外线阻隔层和水氧阻隔层;其中,量子点层厚度为10~100微米,水氧阻隔层厚度为12~125微米,紫外线阻隔层厚度为25~100微米。本实用新型提供的抗紫外线量子点膜通过在量子点膜表面设置一定厚度的紫外线阻隔层,能将量子点与环境中的紫外线隔绝开来,同时保证量子点膜的透光性能,进而对量子点膜中的量子点以及量子点膜中的聚合物材料起到良好的保护作用,使量子点膜的力学性能和光学性能得到有效保证。

技术领域

本实用新型涉及量子点膜领域,特别涉及一种抗紫外线量子点膜。

背景技术

量子点膜被应用在液晶背光模组当中,可以使液晶显示设备的色域提高至100%NTSC以上。量子点不仅容易受到外界环境中水氧的破坏,还容易受到环境中紫外线的影响,使荧光强度减弱。在量子点膜的生产、运输、储存和使用过程当中,都有可能接触到紫外线,使得量子点膜的荧光强度减弱。同时,紫外线还会破坏量子点膜中的聚合物材料的分子结构,使量子点膜的力学和光学性能下降。通过在量子点膜中添加光稳定剂来吸收紫外线的方法,对量子点膜可以起到一定的保护效果。

申请公布号为CN 106279924 A的专利,公布日为2017年01月04日,公开了一种硫铟化合物体系量子点转光薄膜及其制备方法,其中添加了光稳定剂。上述方法存在很大的缺点:光稳定剂与量子点一起分散于量子点膜中,光稳定剂只能吸收部分进入量子点膜内部的紫外线,而不能把量子点与紫外线隔绝开来。

实用新型内容

为解决以上背景技术中提到的量子点膜容易受到环境中紫外线影响的问题,本实用新型提供一种抗紫外线量子点膜,包括量子点层、水氧阻隔层和紫外线阻隔层;

所述量子点层的两侧均依次设置有所述水氧阻隔层和紫外线阻隔层,或所述水量子点层的两侧均依次设置有所述紫外线阻隔层和水氧阻隔层;

其中,所述量子点层厚度为10~100微米,所述水氧阻隔层厚度为12~ 125微米,所述紫外线阻隔层厚度为25~100微米。

进一步地,所述紫外线阻隔层为涂层或聚合物薄膜;所述涂层或聚合物薄膜内设有纳米金属氧化物粉体。

进一步地,所述纳米金属氧化物粉体包括氧化锌纳米粉体、铝掺杂的氧化锌纳米粉体、氧化铟锡纳米粉体、氧化锑锡纳米粉体、氟掺杂氧化锡纳米粉体、多元掺杂氧化锡纳米粉体和三氧化钨纳米粉体中的一种。

进一步地,所述紫外线阻隔层为金属氧化物镀层。

进一步地,所述紫外线阻隔层为涂层或聚合物薄膜;所述涂层或聚合物薄膜内含有紫外线吸收剂。

进一步地,所述紫外线吸收剂包括苯并三唑类化合物、三嗪类化合物、二苯甲酮类化合物中的一种。

进一步地,所述紫外线阻隔层为含有不饱和键或芳环的聚合物薄膜。

进一步地,所述不饱和键或芳环的聚合物薄膜包括芴-三苯胺共聚物薄膜、苯并二噁唑类聚合物薄膜、苯并噻唑类聚合物薄膜、聚萘二甲酸酯类聚合物薄膜、三醋酸纤维素薄膜、聚酰亚胺薄膜中的一种。

进一步地,所述量子点层的厚度为20~50微米。

本实用新型提供的抗紫外线量子点膜通过在量子点膜表面设置一定厚度的紫外线阻隔层,能把量子点与环境中的紫外线隔绝开来,同时保证量子点膜的透光性能,进而对量子点膜中的量子点以及量子点膜中的聚合物材料起到良好的保护作用,使量子点膜的力学性能和光学性能得到有效保证。

附图说明

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