[实用新型]用于激光退火工程的供气系统有效
申请号: | 201721457405.3 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN207555208U | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 成奎栋 | 申请(专利权)人: | 伊欧激光科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | F17D1/02 | 分类号: | F17D1/02 |
代理公司: | 苏州科仁专利代理事务所(特殊普通合伙) 32301 | 代理人: | 陆彩霞;周斌 |
地址: | 215217 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 退火 退火室 惰性气体 气箱 气体分离单元 本实用新型 供气系统 激光退火 室内 回收利用 节约资源 连接气管 排出气体 供气管 回气管 消耗量 排出 供气 | ||
本实用新型公开了一种用于激光退火工程的供气系统,包括退火室和为所述退火室提供惰性气体的气箱,所述退火室与气箱之间通过供气管连接,还包括收集所述退火室内排出气体的气体分离单元,所述气体分离单元分别通过回气管与连接气管与所述退火室、气箱连接以向退火室内形成循环供气。本实用新型不仅具有较高的稳定性,并且由于回收利用了从退火室内排出的惰性气体,大大减少了退火工程中惰性气体的消耗量,节约资源的同时降低生产成本。
技术领域
本实用新型涉及一种用于激光退火工程的供气系统。
背景技术
激光退火工程是指利用激光束在硅晶片上扫描,将非晶体硅模瞬间融化再结晶,从而转变为多晶体硅膜的工程,具体为首先在退火室内加载具有非晶硅模的硅晶片,通过真空泵对退火室进行真空处理后,利用相应的供气系统注入充足的包含氮气在内的多种惰性气体,随后在硅晶片上入射激光束,实行激光退火工程。现有技术中,激光退火工程中所涉及的供气系统的工作原理为,包含氮气在内的惰性气体通过供气管流入气箱,在惰性气体的流通路径上可以安装控制阀来调整流入量,气箱内的惰性气体通过供气管注入退火室,然后进行激光退火工程,但是一方面由于惰性气体和激光退火过程中产生的其他气体混合后经由排气管直接排出,无法二次利用造成资源浪费,另一方面在激光退火过程中受供气压力等周边影响,向退火室内供应惰性气体的稳定性不足。
发明内容
本实用新型目的是:提供一种用于激光退火工程的供气系统。
本实用新型的技术方案是:一种用于激光退火工程的供气系统,包括退火室和为所述退火室提供惰性气体的气箱,所述退火室与气箱之间通过供气管连接,还包括收集所述退火室内排出气体的气体分离单元,所述气体分离单元分别通过回气管与连接气管与所述退火室、气箱连接以向退火室内形成循环供气。
进一步的,本实用新型中所述气箱上设有用于连接气源的输气管。
进一步的,本实用新型中所述气源至气箱的气体流通路径上设有调节惰性气体量的第一流量阀,从而有效控制气箱内的气体量。
进一步的,本实用新型中所述气体分离单元与所述气箱之间设有用于净化从气体分离单元中所分离气体的净化器,保障进入气箱内的惰性气体具有较高的可重复利用度。
进一步的,本实用新型中所述净化器分别通过第一连接气管与第二连接气管与所述气体分离单元、气箱连接。
进一步的,本实用新型中所述净化器至气箱的气体流通路径上设有调节惰性气体量的第二流量阀。
进一步的,本实用新型中所述气体分离单元上设有排出气体的排气管。
进一步的,本实用新型中所述惰性气体包括氮气、氦气、氖气、氩气和氙气。
本实用新型与现有技术相比具有以下优点:本实用新型提供一种用于激光退火工程的供气系统的技术方案,首先,包括通过供气管连接的退火室和气箱,气箱为退火室提供惰性气体从而防止激光退火过程中硅晶片发生氧化反应,其次,还包括气体分离单元,气体分离单元一方面通过回气管与退火室连接、另一方面通过连接气管与气箱连接,气体分离单元收集从退火室内流出的混合气体(包含惰性气体和其他废气)、然后将惰性气体分离并重新输入气箱供退火室使用,从而形成对退火室的循环供气,这种供气系统不仅具有较高的稳定性,并且由于回收利用了从退火室内排出的惰性气体,大大减少了退火工程中惰性气体的消耗量,节约资源的同时降低生产成本。
附图说明
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
图1为本实用新型的结构示意图。
其中:1、退火室;12、供气管;13、回气管;2、气箱;20、输气管;24、第二连接气管;3、气体分离单元;30、排气管;34、第一连接气管;4、净化器;5、第一流量阀;6、第二流量阀。
具体实施方式
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