[实用新型]磁控装置及物理气相沉积设备有效
| 申请号： | 201721520727.8 | 申请日： | 2017-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN207727138U | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 袁园;林宗贤 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤;董琳 |
| 地址： | 223300 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控元件 磁控装置 物理气相沉积设备 耐腐蚀涂层 容纳腔 过滤器 本实用新型 容纳腔内壁 被冷却液 腐蚀 消耗 覆盖 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁控装置，其特征在于，包括：
容纳腔；
位于所述容纳腔内的磁控元件；
耐腐蚀涂层，覆盖所述磁控元件表面。
2.根据权利要求1所述的磁控装置，其特征在于，所述耐腐蚀涂层还覆盖所述容纳腔内壁表面。
3.根据权利要求1或2所述的磁控装置，其特征在于，所述耐腐蚀涂层为单层或多层堆叠结构。
4.根据权利要求3所述的磁控装置，其特征在于，所述耐腐蚀涂层的厚度大于0.1mm。
5.根据权利要求3所述的磁控装置，其特征在于，所述耐腐蚀涂层具有疏水且疏油性表面。
6.根据权利要求3所述的磁控装置，其特征在于，所述耐腐蚀涂层表面的摩擦系数小于0.2。
7.根据权利要求3所述的磁控装置，其特征在于，所述耐腐蚀涂层包括聚四氟乙烯层或全氟乙烯丙烯共聚物层中的一种或两种。
8.根据权利要求1所述的磁控装置，其特征在于，所述磁控元件包括：磁石、用于控制所述磁石旋转的旋转组件。
9.一种物理气相沉积设备，其特征在于，包括：如权利要求1至8中任一项所述的磁控装置。
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