[实用新型]一种残余化学气体的处理装置

权利要求书

1.一种残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述处理装置包括：

壳体，所述壳体的一端设置有进气口，所述壳体的另一端设置有出气口，所述进气口设置为与残余化学气体的进气管连通，所述出气口设置为与排气管连通；

弯曲的流体通道，所述流体通道设置在所述壳体内，并沿所述壳体的轴线方向延伸，且所述流体通道的两端分别与所述进气口和所述出气口连通；和

加热部件，所述加热部件用于加热所述弯曲的流体通道。

2.根据权利要求1所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述处理装置还包括用于形成所述流体通道的通道构件，所述通道构件包括中轴和螺旋叶片，所述螺旋叶片的内边缘设置在所述中轴上，且所述螺旋叶片的外边缘与所述壳体的内壁密闭接触，以在所述壳体内形成螺旋状的所述流体通道。

3.根据权利要求2所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述螺旋叶片设置为复数个并且沿所述中轴的轴线方向依次设置，以在所述壳体内形成螺旋状的所述流体通道；所述螺旋叶片具有开口，并且相邻两个螺旋叶片的开口的方向不同；

或者，所述螺旋叶片设置为一个，所述螺旋叶片沿所述中轴的轴线方向围绕所述中轴作螺旋状延伸，以在所述壳体内形成螺旋状的所述流体通道。

4.根据权利要求3所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述处理装置还包括阻流片，所述阻流片竖立设置在所述螺旋叶片上。

5.根据权利要求4所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述阻流片的外边缘与所述壳体的内壁密闭接触。

6.根据权利要求4所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述螺旋叶片设置为复数个，相邻两个螺旋叶片之间设置有两个阻流片，且所述两个阻流片分别设置在相邻两个螺旋叶片上并位于所述中轴的相对的两侧；

或者，所述螺旋叶片设置为一个，所述螺旋叶片具有第一螺旋表面和第二螺旋表面，所述螺旋叶片的每一个螺旋内设置有两个阻流片，且所述两个阻流片分别设置在所述第一螺旋表面和所述第二螺旋表面上并位于所述中轴的相对的两侧。

7.根据权利要求1所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述处理装置还包括用于形成所述流体通道的通道构件，所述通道构件包括复数个叶片，所述叶片包括第一叶片和第二叶片，所述第一叶片的一端和所述第二叶片的一端分别设置在所述壳体内的相对两侧，且所述第一叶片和所述第二叶片交替设置，所述第一叶片的另一端与所述壳体的内壁之间具有缝隙，所述第二叶片的另一端与所述壳体的内壁之间具有缝隙，所述第一叶片的另一端和所述第二叶片的另一端部分重叠，以在所述壳体内形成所述弯曲的流体通道；或者

所述处理装置还包括用于形成所述流体通道的通道构件，所述通道构件包括中轴和复数个叶片，所述叶片设置在所述中轴上，且朝向不同的方向延伸，并延伸至与所述壳体的内壁密闭接触，且不同朝向的叶片交替设置在所述中轴上，以在所述壳体内形成弯曲的所述流体通道。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述处理装置还包括测温部件，所述测温部件设置在所述壳体内。

9.根据权利要求2-7中任一项所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述通道构件可拆卸地安装在所述壳体内。

10.根据权利要求1-7中任一项所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述加热部件包括套设在所述壳体外部的第一加热部件；

或者，所述加热部件包括设置在所述壳体内的第二加热部件，且所述第二加热部件外设置有保护罩；

或者，所述加热部件包括套设在所述壳体外部的第一加热部件和设置在所述壳体内的第二加热部件，且所述第二加热部件外设置有保护罩。

11.根据权利要求1-7中任一项所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述壳体的两端的外壁上设置有冷却装置；或者，所述壳体的一端的外壁上置有冷却装置。

12.根据权利要求1-7中任一项所述的残余化学气体的处理装置，其特征在于，所述壳体的外壁上设置有防护罩。