[实用新型]一种单晶炉稳定热场有效

专利信息
申请号: 201721529386.0 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN207685411U 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 史二庆 申请(专利权)人: 四川高铭科技有限公司
主分类号: C30B35/00 分类号: C30B35/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 62500*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 热场 晶棒 加热器 导流筒 坩埚 本实用新型 平行设置 单晶炉 内筒 热屏 外筒 导流通道 横向梯度 生产过程 生产效率 石英坩埚 温度稳定 氩气流量 导流板 最外层 外部 位错 架设 消耗
【权利要求书】:

1.一种单晶炉稳定热场,其特征在于:包括导流筒(10)、坩埚(20)和加热器(30),所述导流筒(10)最外层设有外筒(15),所述外筒(15)内侧设有内筒(14),所述内筒(14)顶部向外弯曲形成钩部,所述钩部与所述外筒(15)固定连接,所述内筒(14)的内侧设有钼屏(12),所述钼屏(12)内部为导流通道(13),所述导流筒(10)底部设有导流板(17),所述导流板(17)通过连接机构(11)与所述外筒(15)的下端凸出部固定连接,所述导流板(17)与所述导流通道(13)之间设有隔板(16),所述坩埚(20)内部架设有环形钼屏(23),其外部平行设置有加热器(30),所述加热器(30)最外侧设有保温屏(31),所述保温屏(31)内部设有加热管(32),所述加热管(32)之间通过弧形固定杆(34)连接。

2.根据权利要求1所述一种单晶炉稳定热场,其特征在于:所述导流板(17)上设有导流孔(18)。

3.根据权利要求1所述一种单晶炉稳定热场,其特征在于:所述导流筒(10)和所述坩埚(20)同轴设置,所述坩埚(20)为石英坩埚(21)。

4.根据权利要求1所述一种单晶炉稳定热场,其特征在于:所述钼屏(12)和所述环形钼屏(23)包括多个单层钼片(121),所述钼片(121)上设有通孔(124)和支撑相邻层钼片的凸起(122)。

5.根据权利要求4所述一种单晶炉稳定热场,其特征在于:所述通孔(124)内贯穿设有钼螺钉(126),所述钼螺钉(126)的一头带有钼螺帽(125),另一头带有螺纹并与所述内筒(14)螺纹连接。

6.根据权利要求5所述一种单晶炉稳定热场,其特征在于:所述钼螺钉(126)两头带有钼螺帽(125)。

7.根据权利要求4所述一种单晶炉稳定热场,其特征在于:所述相邻的钼片(121)之间通过所述凸起(122)形成间隙层(123)。

8.根据权利要求1所述一种单晶炉稳定热场,其特征在于:所述加热管(32)上连接有铜环电极(33),所述铜环电极(33)穿过所述保温屏(31)的一端设有引出装置(35)。

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