[实用新型]一种多晶硅抛光装置有效

专利信息
申请号: 201721532630.9 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN207431971U 公开(公告)日: 2018-06-01
发明(设计)人: 何晓东 申请(专利权)人: 浙江启瑞电子有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B47/12;B24B41/06
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 324300 浙江省衢州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 多晶硅 抛光砂轮 电动机 下端 混合砂轮 抛光装置 固定板 电动机固定板 固定电动机 精抛光 机械加工领域 本实用新型 抛光加工 人工成本 专利结构 左右对称 粗抛光 固定杆 伸缩杆 工作台 穿过 加工 生产
【说明书】:

本实用新型主要涉及一种多晶硅抛光装置,属于机械加工领域,包括精抛光装置和粗抛光装置,所述精抛光装置包括固定电动机,所述固定电动机通过伸缩杆穿过固定板与多晶硅固定板相连,所述固定板通过固定杆装有电动机固定板,所述电动机固定板下端左右对称装有粗细磨混合砂轮电动机、抛光砂轮电动机,所述粗细磨混合砂轮电动机下端装有粗细磨混合砂轮,所述抛光砂轮电动机下端装有抛光砂轮,所述抛光砂轮下端设有工作台。本专利结构简单,方便、实用的而且可以自动对多晶硅进行抛光加工的多晶硅抛光装置,有利于提高加工速率,减少人工成本,提高生产效益。

技术领域

本实用新型属于机械加工领域,主要涉及一种多晶硅抛光装置。

背景技术

多晶硅,是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则这些晶粒结合起来,就结晶成多晶硅。利用价值:从目前国际太阳电池的发展过程可以看出其发展趋势为单晶硅、多晶硅、带状硅、薄膜材料。

抛光是使用物理机械或化学药品降低物体表面粗糙度的工艺。抛光技术主要在精密机械和光学工业中使用。抛光后的工件表面光滑具有良好的反射效果。

机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。

发明内容

针对现实中多晶硅抛光加工人工操作速度慢,加工精度低,工作繁重等问题,本实用新型提供一种结构简单,方便、实用的而且可自动对多晶硅进行抛光加工的多晶硅抛光装置。

本实用新型所采用的设计方案是:一种多晶硅抛光装置,包括精抛光装置12和粗抛光装置13,所述精抛光装置12包括固定电动机1,所述固定电动机1通过伸缩杆2穿过固定板3与多晶硅固定板6相连,所述固定板3通过固定杆4装有电动机固定板5,所述电动机固定板5下端左右对称装有粗细磨混合砂轮电动机7、抛光砂轮电动机9,所述粗细磨混合砂轮电动机7下端装有粗细磨混合砂轮8,所述抛光砂轮电动机9下端装有抛光砂轮10,所述抛光砂轮10下端设有工作台11。

本实用新型提供的设计方案中,所述抛光砂轮10上刻有凸纹。

本实用新型提供的设计方案中,所述粗细磨混合砂轮8为光滑的砂轮。

本实用新型提供的设计方案中,所述精抛光装置12和粗抛光装置13通过电动机固定板5上下对称。

本实用新型提供的设计方案中,所述精抛光装置12和粗抛光装置13上的粗细磨混合砂轮8旋转方向相反。

本实用新型提供的设计方案中,所述精抛光装置12和粗抛光装置13上的抛光砂轮10旋转方向相反。

本实用新型具有以下优点:

本实用新型提供的一种多晶硅抛光装置,结构简单,方便、实用的而且可以自动对多晶硅进行抛光加工的多晶硅抛光装置,有利于提高加工速率,减少人工成本,提高生产效益。

附图说明

图1多晶硅抛光装置的三维结构图,其中1-固定板电动机,2-伸缩杆,3-固定板,4-固定板,5-电动机固定板,6-多晶硅固定板,7-粗细磨混合砂轮电动机,8-粗细磨混合砂轮,9-抛光砂轮电动机,10-抛光砂轮,11-工作台,12-精抛光装置,13-粗抛光装置。

具体实施方式

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