[实用新型]冷阱装置、尾气处理系统及半导体生产设备有效
申请号: | 201721533749.8 | 申请日: | 2017-11-16 |
公开(公告)号: | CN207694292U | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 特洛伊·乔纳森·贝克;武泽成;王颖慧 | 申请(专利权)人: | 镓特半导体科技(上海)有限公司 |
主分类号: | B01D8/00 | 分类号: | B01D8/00;B01D49/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 冷阱装置 罐体 半导体生产设备 尾气处理系统 本实用新型 抽气装置 进气口 反应腔室 沉淀区 冷却区 排气口 预处理 尾气处理装置 保养频率 保养周期 顶部设置 废气处理 粉尘沉积 罐体上部 罐体下部 冷却管路 设备清洗 侧壁 排出 停机 废气 尾气 | ||
1.一种冷阱装置,其特征在于,所述冷阱装置包括罐体及位于所述罐体上的冷却管路,所述罐体具有内壁及外壁且所述罐体包括:
冷却区,位于所述罐体的上部,所述冷却区顶部设置有进气口;
沉淀区,位于所述罐体的下部,与所述冷却区相连通,所述沉淀区上设置有排气口。
2.根据权利要求1所述的冷阱装置,其特征在于:所述冷阱装置的材质包括不锈钢、铝合金、汞合金、铜合金、钼合金、锰合金、铌合金及钛合金。
3.根据权利要求1所述的冷阱装置,其特征在于:所述冷却管路位于所述内壁和所述外壁之间,且所述外壁上设有与所述冷却管路相连通的进口及出口。
4.根据权利要求1所述的冷阱装置,其特征在于:所述冷却区还包括冷却板,所述冷却板设置于所述冷却区的内壁上,且所述冷却板的表面与所述罐体的底面相平行或所述冷却板以1°~89°的角度向下倾斜设置于所述冷却区的所述内壁上。
5.根据权利要求4所述的冷阱装置,其特征在于:所述冷却板包括相对的固定端及自由端,所述冷却板的固定端与所述冷却区的内壁相连接。
6.据权利要求4所述的冷阱装置,其特征在于:所述冷却板包括第一冷却板及第二冷却板,所述第一冷却板与所述第二冷却板交替间隔排布;所述第二冷却板内形成有通孔,所述第一冷却板在第二冷却板上的正投影覆盖所述第二冷却板的通孔。
7.根据权利要求1所述的冷阱装置,其特征在于:所述罐体的沉淀区上设有可视窗口,且所述可视窗口与所述罐体可拆卸密封连接。
8.根据权利要求7所述的冷阱装置,其特征在于:所述排气口位于所述沉淀区上,且所述排气口的高度高于所述可视窗口的高度。
9.一种尾气处理系统,用于对从反应腔室排出的尾气进行处理,其特征在于,所述尾气处理系统包括:
如权利要求1至8中任一项所述的冷阱装置;
抽气装置,包含进气口和排气口,所述抽气装置的进气口与所述冷阱装置的所述沉淀区的所述排气口相连接;
尾气处理装置,包含进气口和排气口,所述尾气处理装置的进气口与所述抽气装置的排气口相连接;
排气管路,连接于所述反应腔室与所述冷阱装置之间,所述冷阱装置与所述抽气装置之间及所述抽气装置与所述尾气处理装置之间,及,
至少一个阀门,所述阀门设置于连接所述反应腔室与所述冷阱装置之间的所述排气管路上。
10.一种半导体生产设备,其特征在于,所述半导体生产设备包括:
反应腔室;
如权利要求9所述的尾气处理系统,所述尾气处理系统中连接于所述反应腔室与所述冷阱装置之间的排气管路的一端与所述反应腔室的内部相连通。
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