[实用新型]一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置有效
| 申请号： | 201721538178.7 | 申请日： | 2017-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN207408574U | 公开（公告）日： | 2018-05-25 |
| 发明（设计）人： | 宋保柱;王栋权;武瑞军 | 申请（专利权）人： | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/07 | 分类号： | G01R33/07 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫;陈婷婷 |
| 地址： | 215222 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁缸 测柱 磁场测量装置 安装座 主体部 磁控溅射镀膜 本实用新型 安装孔 磁感应 支架 柱状 玻璃生产技术 多点位测量 磁控溅射 方向间隔 弧形延伸 径向延伸 高斯仪 可滑动 圆弧状 轴心线 测磁 镀设 膜层 探针 周部 磁场 平行 生产 支撑 配合 分析 | ||
1.一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于： 包括用以支撑待测柱状磁缸的支架、可滑动的设置于所述支架上的安装座，所述安装座设于所述待测柱状磁缸的正下方且其运动方向平行所述待测柱状磁缸的轴心线方向，所述安装座至少包括与所述待测柱状磁缸的外侧周部相配合的圆弧状主体部，所述主体部上沿其弧形延伸方向间隔设有多个用以安装高斯仪探针的安装孔，所述安装孔沿所述主体部的径向延伸。
2.根据权利要求1所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于：所述安装座的内壁与所述待测柱状磁缸的外壁相贴触或具有间隙。
3.根据权利要求1所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于：所述主体部的圆弧角度为10°～90°。
4.根据权利要求3所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于：所述主体部的圆弧角度为90°。
5.根据权利要求3所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于：所述安装孔均匀间隔设置于所述主体部上，每相邻的两个所述安装孔之间的夹角为5°～10°。
6.根据权利要求1所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于：所述安装座还包括设于所述主体部下方用以支撑所述主体部的支撑底座。
7.根据权利要求6所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于：所述支架包括设于所述待测柱状磁缸正下方的滑轨，所述安装座的所述支撑底座可滑动的设于所述滑轨上。
8.根据权利要求7所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于：所述支架还包括用以固定所述待测柱状磁缸两端部的两固定端头，所述待测柱状磁缸架设于两所述固定端头之间。
9.根据权利要求1所述的一种适用于磁控溅射镀膜生产中柱状磁缸的磁场测量装置，其特征在于：所述安装孔为通孔。
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