[实用新型]一种抛光研磨机的上盘水冷机构有效

专利信息
申请号: 201721540703.9 申请日: 2017-11-15
公开(公告)号: CN207387447U 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 李创宇;范镜;张彦志 申请(专利权)人: 深圳赛贝尔自动化设备有限公司
主分类号: B24B55/03 分类号: B24B55/03
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市光明新*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 研磨机 上盘 水冷 机构
【说明书】:

本实用新型公开了一种抛光研磨机的上盘水冷机构,包括进水组件,进水组件包括套筒和三个水封,套筒松套在上盘连接轴的中部;水封安装在套筒的内孔中,沿上盘连接轴的轴向将套筒的内腔分隔成两个环形腔;上盘连接轴包括两条轴向水道,轴向水道包括上出入口和下出入口,轴向水道的上出入口位于上盘连接轴的上部,第一轴向水道的下出入口与第一环形腔连通,第二轴向水道的下出入口与第二环形腔连通;套筒包括两个出入口,套筒的第一出入口与第一环形腔连通,套筒的第二出入口与第二环形腔连通;套筒的两个出入口分别通过管道与上盘冷却水套的出入口连通。本实用新型的进水组件结构简单,占用设备的轴向尺寸较小,可以降低设备的尺寸和成本。

技术领域]

本实用新型涉及抛光机或研磨机,尤其涉及一种抛光研磨机的上盘水冷机构。

背景技术]

传统的研磨或抛光机实用于加工超薄硬脆性材料薄形精密零件的2D;2.5D;3D加工,传统机型因上盘没设计水冷结构,磨盘与工件长时间在加工过程中的接触,造成磨盘与磨液发热,磨液蒸发快,容易产生对产品表面的损伤。研磨抛光使用的磨液对温度有一定的使用要求,过高的温度会使磨液中的水份过快的蒸发掉,导致磨液容易结晶,从而使磨液的损耗量增加,并机器上使用的磨具有些是使用胶水粘合的,过高的温度会使磨具脱胶,从而降低了磨具的使用寿命。

专利号为CN201620216781.2的实用新型提供了一种抛光研磨机的上盘水冷机构,包括吊板、水冷压板、定盘支柱和进水组件,上述水冷压板用于与上盘密封连接,上述的吊板与水冷压板平行设置,上述定盘支柱的两端分别固连在吊板和水冷压板上,所述的进水组件上具有连接部一和连接部二,所述连接部一和连接部二轴向固连且能周向转动,所述连接部一与连接部二之间具有能将水导入水冷压板与上盘之间的间隙处。

该实用新型的进水组件结构复杂,占用设备的轴向尺寸较大。

发明内容]

本实用新型要解决的技术问题是提供一种进水组件结构简单,占用设备的轴向尺寸较小的抛光研磨机的上盘水冷机构。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是,一种抛光研磨机的上盘水冷机构,包括进水组件,抛光研磨机包括机架、上盘升降机构和上盘,上盘升降机构包括提升气缸和上盘连接轴,提升气缸通过上盘连接轴与上盘连接;上盘包括冷却水套,进水组件包括套筒和三个水封,套筒松套在上盘连接轴的中部;水封安装在套筒的内孔中,三个水封的内缘与上盘连接轴适配,沿上盘连接轴的轴向将套筒的内腔分隔成两个环形腔;上盘连接轴包括两条轴向水道,轴向水道包括上出入口和下出入口,轴向水道的上出入口位于上盘连接轴的上部,第一轴向水道的下出入口与第一环形腔连通,第二轴向水道的下出入口与第二环形腔连通;套筒包括两个出入口,套筒的第一出入口与第一环形腔连通,套筒的第二出入口与第二环形腔连通;套筒的两个出入口分别通过管道与上盘冷却水套的出入口连通。

以上所述的上盘水冷机构,进水组件包括滚动轴承,滚动轴承的外圈固定在套筒的内孔中,内圈固定在上盘连接轴上。

以上所述的上盘水冷机构,上盘连接轴包括连接轴和不锈钢套,不锈钢套紧套在连接轴的中部,不锈钢套的壁上包括两个通孔;所述的轴向水道位于连接轴中,所述的通孔作为轴向水道的下出入口与轴向水道的下端连通;滚动轴承的内圈固定在连接轴上,压在不锈钢套的顶面上;水封的内缘与不锈钢套的外周适配。

以上所述的上盘水冷机构,上盘包括盘体、万向平衡机构、托盘和复数根立柱,托盘布置在盘体的上方,托盘与盘体通过立柱连接;万向平衡机构固定在托盘的中部,与上盘连接轴的下部通过关节轴承连接。

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