[实用新型]一种金刚石薄膜真空沉积炉装置

权利要求书

1.一种金刚石薄膜真空沉积炉装置，其特征是：包括底座、炉体、上盖、沉积台总成和等离子发生器，所述的底座设置在底部，炉体设置在底座的上部，上盖设置在炉体的上部，沉积台总成设置在底座的中心上部，等离子发生器设置在上盖的中心下部；所述的炉体为圆筒结构，炉体的上下贯通，炉体为双层结构，在内层和外层之间设置有炉体水道，内层的内侧为炉体内腔，炉体的侧面设置有炉口，炉口外侧设置有炉门座，炉门座的座体内设置有冷却水道与炉体水道连通，炉门座外侧设置有炉门，炉体的上部端面外侧设置有上连接法兰，上连接法兰上面外侧圆周上设置有上密封圈，炉体的下部端面外侧上设置有下连接法兰，下连接法兰下面外侧圆周上设置有下密封圈，上连接法兰和下连接法兰上均设置有连接螺纹孔，炉体外层上设置有炉体进水管和炉体出水管，炉体进水管的下部设置有真空抽取管，真空抽取管与炉体内腔连通。

2.根据权利要求1所述的一种金刚石薄膜真空沉积炉装置，其特征是：所述的上盖上部为圆盘结构，下部为圆柱体结构，上盖的上部圆周外侧均匀设置有通孔，通孔内设置有上盖连接螺栓，上盖连接螺栓的位置与炉体上部的连接螺纹孔对应连接，上盖下部的圆柱体直径小于炉体内腔直径，上盖的中心设置有安装孔，上盖的内部设置有环形的上盖水道，上盖的安装孔两侧设置有上盖进水管和上盖出水管与上盖水道连通。

3.根据权利要求1所述的一种金刚石薄膜真空沉积炉装置，其特征是：所述的底座为圆柱体结构，底座内部为中空的底座水道，底座的上面外侧设置有底座法兰，底座法兰上均匀设置有通孔，通孔内设置有底座连接螺栓，底座连接螺栓的位置与炉体上部的连接螺纹孔位置对应连接，底座的中心轴位置设置有上下贯通的套管，套管下部的底座下面上设置有旋转密封环，底座的外侧面上设置有底座进水管和底座出水管与底座水道连通。