[实用新型]一种新型抗腐蚀真空液体收集器有效
申请号: | 201721610717.3 | 申请日: | 2017-11-28 |
公开(公告)号: | CN207834258U | 公开(公告)日: | 2018-09-07 |
发明(设计)人: | 徐良;褚君尉;刘建哲;夏建白 | 申请(专利权)人: | 浙江博蓝特半导体科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 吴佩 |
地址: | 321016 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空液体 锥形挡板 抗腐蚀 收集器 显影机 显影液 真空泵 贮存腔 倾斜度 本实用新型 表面设置 设备安装 使用寿命 显影设备 接受管 流液槽 负压 工位 停机 转轴 自带 马达 半导体 腐蚀 | ||
1.一种新型抗腐蚀真空液体收集器,包括锥形挡板,接受管,贮存腔和真空泵,其特征在于此设备安装在显影机工位正下方,锥形挡板表面设置C型流液槽并底部自带具有一定倾斜度的U型槽,利用真空泵形成的负压,使显影液快速流入贮存腔。
2.据权利要求1所述的一种新型抗腐蚀真空液体收集器,其特征在于:所述的锥形挡板高为20cm,上底直径为2cm,下底直径为30cm,主要是由厚度为1.5mm的304不锈钢经过无缝氩弧焊接而成,可以承受100atm的压力。
3.据权利要求1所述的一种新型抗腐蚀真空液体收集器,其特征在于:所述的连接U型槽出液口的接受管是长度1m,直径为2cm,化学性质稳定,抗腐蚀能力强的PPR软管。
4.据权利要求1所述的一种新型抗腐蚀真空液体收集器,其特征在于:所述的贮存腔是由抗酸碱的PFA材料制成的,腔体的容积为3L,贮存腔进口处安装一张高分子多孔质膜,以去除显影液中的杂质和维持腔内外一定的压差。
5.据权利要求1所述的一种新型抗腐蚀真空液体收集器,其特征在于:所述的真空泵是爱德华E2M40双级机械油封真空泵,运行电压为220V,频率为50Hz,抽气速度为700L/min。
6.据权利要求1所述的一种新型抗腐蚀真空液体收集器,其特征在于:所述的C型流液槽是沿着挡板表面,由上底面连通到出液口,长度为30cm。
7.据权利要求1所述的一种新型抗腐蚀真空液体收集器,其特征在于:所述的U型槽位于挡板的底部,深度为1cm,长度为90cm,倾斜度为-0.1rad/cm,出液口是位置最低点,有利于显影液快速通过出液口进入贮存腔。
8.据权利要求1所述的一种新型抗腐蚀真空液体收集器,其特征在于:所述的所有操作过程均在尘埃粒子含量达到百级标准的无尘车间内进行。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造