[实用新型]一种新型抗腐蚀真空液体收集器

说明书

本实用新型涉及一种半导体显影设备，尤其是涉及一种新型抗腐蚀真空液体收集器，包括锥形挡板，接受管，贮存腔和真空泵，其特征在于此设备安装在显影机工位正下方，锥形挡板表面设置C型流液槽并底部自带具有一定倾斜度的U型槽，利用真空泵形成的负压，使显影液快速流入贮存腔。可以防止多余的显影液沿着转轴流入并腐蚀马达，降低了故障停机率，提高了显影机的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及一种半导体显影设备，尤其是涉及一种新型抗腐蚀真空液体收集器。

背景技术

显影，是将影像显现出来的过程，是半导体工业中不可缺少的工艺。显影机已经广泛地应用到半导体行业的各个领域，以制备图形化蓝宝石衬底的显影过程为例，包含烘烤，冷却，显影，后烘和冷却等五个步骤。

在目前的显影过程中，向高速旋转的晶片滴加显影液，少部分显影液留在晶片表面用于显现光刻后的图形，大部分显影液由于向心力的作用被甩到显影槽中，还有一部分显影液会沿着转轴流入并腐蚀马达，提高了故障停机率和设备维护成本，缩短了显影机的使用寿命，严重影响正常的生产计划。

发明内容

针对现有的显影机设备存在的问题，本实用新型的技术方案如下：

一种新型抗腐蚀真空液体收集器，包括锥形挡板，接受管，贮存腔和真空泵，其特征在于此设备安装在显影机工位正下方，锥形挡板表面设置C型流液槽并底部自带具有一定倾斜度的U型槽，利用真空泵形成的负压，使显影液快速流入贮存腔。

进一步的，所述的锥形挡板高为20cm，上底直径为2cm，下底直径为30cm，主要是由厚度为1.5mm的304不锈钢经过无缝氩弧焊接而成，可以承受100atm的压力；

进一步的，所述的连接U型槽出液口的接受管是长度1m，直径为2cm，化学性质稳定，抗腐蚀能力强的PPR软管；

进一步的，所述的贮存腔是由抗酸碱的PFA材料制成的，腔体的容积为3L，贮存腔进口处安装一张高分子多孔质膜，以去除显影液中的杂质和维持腔内外一定的压差；

进一步的，所述的真空泵是爱德华E2M40双级机械油封真空泵，运行电压为220V，频率为50Hz，抽气速度为700L/min；

进一步的，所述的C型流液槽是沿着挡板表面，由上底面连通到出液口，长度为30cm；

进一步的，所述的U型槽位于挡板的底部，深度为1cm，长度为90cm，倾斜度为-0.1rad/cm，出液口是位置最低点，有利于显影液快速通过出液口进入贮存腔；

进一步的，所述的所有操作过程均在尘埃粒子含量达到百级标准的无尘车间内进行。

本实用新型的创新之处是：本实用新型发明的设备安装在显影机工位正下方，锥形挡板表面设置C型流液槽并底部自带具有一定倾斜度的U型槽，利用真空泵形成的负压，使显影液快速流入贮存腔。

附图说明

图1是一种新型抗腐蚀真空液体收集器的示意图

1-锥形挡板；2-C型流液槽；

3-U型槽；4-出液口；5-接受管；

6-高分子多孔质膜；7-贮存腔；8-真空泵；

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行说明:

本实用新型提供了一种新型抗腐蚀真空液体收集器，如图1 所示，包括锥形挡板1、C型流液槽2、U型槽3、出液口4、接受管5、高分子多孔质膜6、贮存腔7、真空泵8。