[实用新型]曝光机

说明书

本实用新型公开了一种曝光机。曝光机可用于照射玻璃基板，玻璃基板包括玻璃层和偏振膜层。曝光机包括承载台、光发生器和起偏器。承载台可用于承载玻璃基板。光发生器用于向承载台发射光线。起偏器设置在光发射器和承载台之间。当玻璃基板承载在承载台上，且偏振膜层位于玻璃层与承载台之间时，光发生器发出的光线依次穿过起偏器和玻璃层后到达偏振膜层，起偏器的偏振方向与偏振膜层的偏振方向垂直。当偏振膜层位于玻璃层与承载台之间时，由于起偏器的偏振方向与偏振膜层的偏振方向垂直，穿过起偏器和玻璃层的光线不能穿过偏振膜层，不会被承载台反射，玻璃基板被光线照射的强度较均匀。

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，更具体而言，涉及一种曝光机。

背景技术

在制作薄膜晶体管TFT(Thin Film Transistor)的过程中，当需要在玻璃基板上印制电极图案时，需要将玻璃基板放置在承载台上，再将光照射在涂覆有光阻材料的玻璃基板上，穿过玻璃基板的光受到承载台的反射后，以反射光的形式再次作用到玻璃基板上，而由于承载台的不同位置对光的反射作用有差异，反射光的强度分布不均，反射光对光阻材料的照射作用也不均匀，导致在后续制作图案的过程中容易产生缺陷。

实用新型内容

本实用新型实施方式提供一种曝光机。

本实用新型实施方式的曝光机用于照射玻璃基板，所述玻璃基板包括玻璃层和偏振膜层，所述曝光机包括：

承载台，所述承载台用于承载所述玻璃基板；

光发生器，所述光发生器用于向所述承载台发射光线；和

起偏器，所述起偏器设置在所述光发生器与所述承载台之间，当所述玻璃基板承载在所述承载台上且所述偏振膜层位于所述玻璃层与所述承载台之间时，光线依次穿过所述起偏器和所述玻璃层后到达所述偏振膜层，所述起偏器的偏振方向与所述偏振膜层的偏振方向垂直。

在某些实施方式中，所述曝光机还包括起偏驱动器、起偏角度传感器和处理器，所述起偏驱动器用于驱动所述起偏器转动，所述起偏角度传感器用于检测所述起偏器的转动角度；所述处理器与所述起偏角度传感器和所述起偏驱动器均连接，所述处理器用于依据所述起偏器的转动角度，判断所述起偏器的偏振方向与所述偏振膜层的偏振方向是否垂直，且在所述起偏器的偏振方向与所述偏振膜层的偏振方向不垂直时，控制所述起偏驱动器驱动所述起偏器转动。

在某些实施方式中，所述曝光机还包括基板驱动器、基板角度传感器和处理器，所述基板驱动器用于驱动所述玻璃基板转动，所述基板角度传感器用于检测所述玻璃基板的转动角度；所述处理器与所述基板角度传感器及所述基板驱动器均连接，所述处理器用于依据所述玻璃基板的转动角度，判断所述起偏器的偏振方向与所述偏振膜层的偏振方向是否垂直，且在所述起偏器的偏振方向与所述偏振膜层的偏振方向不垂直时，控制所述基板驱动器驱动所述玻璃基板转动。

在某些实施方式中，所述承载台包括承载平面，所述玻璃基板承载在所述承载平面上，所述承载平面上形成有凹槽，所述曝光机还包括光照度传感器，所述光照度传感器设置在所述凹槽内，所述光照度传感器用于检测进入所述凹槽内的光线的光照强度。

在某些实施方式中，所述曝光机还包括：

驱动部，所述驱动部用于驱动所述起偏器和/或所述玻璃基板转动；和

处理器，所述处理器与所述光照度传感器和所述驱动部均连接，所述处理器用于在所述光照强度大于或等于预设的光照强度阈值时，控制所述驱动部驱动所述起偏器和/或所述玻璃基板转动。

在某些实施方式中，所述承载台包括承载平面，所述玻璃基板承载在所述承载平面上，所述曝光机还包括平行检测装置，所述平行检测装置用于检测所述起偏器与所述承载平面是否平行。