[实用新型]一种灯丝结构、工件清洗设备及真空镀膜设备有效
申请号: | 201721645790.4 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN207425793U | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 毕凯 | 申请(专利权)人: | 嘉兴岱源真空科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/34 | 分类号: | H01J37/34;H01J37/32 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 姚海波 |
地址: | 314100 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 下连接轴 上连接轴 灯丝 工件清洗设备 真空镀膜设备 氩气 灯丝结构 电性连接 上轴承 下轴承 本实用新型 安全事故 电位连接 壳体开孔 完全封闭 连接头 开孔 线缆 离子 泄露 穿过 | ||
一种灯丝结构,包括灯丝、上连接轴、下连接轴、上轴承、下轴承及第一连接头,所述上连接轴穿过上轴承,所述下连接轴与下轴承连接,所述灯丝连接于上连接轴与下连接轴之间,所述第一连接头与下连接轴电性连接,所述下连接轴与灯丝电性连接。如此取消了线缆的电位连接方式及壳体开孔,因此无需开孔、完全封闭,氩气、离子和电子不会泄露,避免了氩气浪费、环境污染及安全事故。本实用新型还提供了一种工件清洗设备及一种真空镀膜设备。
技术领域
本实用新型涉及材料制作领域,特别是一种灯丝结构、工件清洗设备及真空镀膜设备。
背景技术
溅射法制作纳米材料的方式有:磁控溅射、偏压溅射及反应溅射等。其中磁控溅射的原理为:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子沉积在基片或工件上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动。
工件有时需要用高速电子进行清洗,工件清洗设备的灯丝、基板及壳体需设置为不同的电位,以形成一定的电压差,从而引导电子的移动方向。现有的电位的维持方式为:在设备的壳体上开设一个通孔,线缆从该通孔伸入到壳体内,并分别与灯丝、基板及壳体连接,以维持电压差。由于壳体内填充有氩气等气体,在壳体上开孔可能导致氩气泄露,电子有可能从该通孔中溢出,造成氩气浪费、环境污染及安全事故。
另有一种真空镀膜设备,其灯丝、基板及壳体需设置为不同的电位,以形成一定的电压差,从而引导电子的移动方向。现有的电位的维持方式为:在设备的壳体上开设一个通孔,线缆从该通孔伸入到壳体内,并分别与灯丝、基板及壳体连接,以维持电压差。由于壳体内填充有氩气等气体,在壳体上开孔可能导致氩气泄露,电子有可能从该通孔中溢出,造成氩气浪费、环境污染及安全事故。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供了一种无需开孔、完全封闭,氩气和电子不会泄露的灯丝结构、工件清洗设备及真空镀膜设备,以解决上述问题。
一种灯丝结构,包括灯丝、上连接轴、下连接轴、上轴承、下轴承及第一连接头,所述上连接轴穿过上轴承,所述下连接轴与下轴承连接,所述灯丝连接于上连接轴与下连接轴之间,所述第一连接头与下连接轴电性连接,所述下连接轴与灯丝电性连接。
进一步地,所述灯丝结构还包括转动环、遮挡板、驱动装置、第一齿轮及第二齿轮,所述转动环转动套设于下连接轴上,所述遮挡板呈弧形围绕灯丝设置,所述遮挡板的下端与转动环连接,所述转动环与第二齿轮平行且同轴固定设置,所述第二齿轮与第一齿轮啮合,所述第一齿轮固定于驱动装置的输出轴上。
进一步地,所述灯丝结构还包括第二连接头,所述第二连接头通过固定轴与遮挡板电性连接。
进一步地,所述驱动装置设置于固定板上,所述下轴承与固定板固定连接。
本实用新型还提供一种工件清洗设备,具有上述的灯丝结构,所述工件清洗设备还包括壳体及基板,所述灯丝、基板均位于壳体内,所述上轴承穿过壳体的顶部,所述下连接轴穿过壳体的底部,所述基板设置于壳体的顶部与壳体的底部之间。
进一步地,所述灯丝的上端通过上连接件与上连接轴连接,下端通过下连接件与下连接轴连接。
进一步地,所述上连接件的上端与上连接轴连接,下端与灯丝的上端连接,下连接件的下端与下连接轴连接,上端与灯丝的下端连接,灯丝的上端与第一螺钉固定连接,并部分地缠绕在第二螺钉上,第一螺钉及第二螺钉均与上连接件螺纹连接。
进一步地,所述上连接件的上端与上连接轴连接,下端与灯丝的上端连接,下连接件的下端与下连接轴连接,上端与灯丝的下端连接,灯丝的下端与第一螺钉固定连接,并部分地缠绕在第二螺钉上,第一螺钉及第二螺钉均与下连接件螺纹连接。
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