[实用新型]一种抛光用的凹模板有效

专利信息
申请号: 201721660461.7 申请日: 2017-12-02
公开(公告)号: CN207900922U 公开(公告)日: 2018-09-25
发明(设计)人: 田晓龙;郑扬真;郑永强;李洋;周亚南;魏运涛 申请(专利权)人: 广东轻工机械二厂有限公司
主分类号: B24B41/06 分类号: B24B41/06
代理公司: 汕头市南粤专利商标事务所(特殊普通合伙) 44301 代理人: 吴旭强
地址: 515000 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 高分子合成材料 本实用新型 抛光 凹模板 负压槽 限位槽 传统抛光设备 真空吸附系统 一体成型的 工件装卸 内部方向 设备故障 生产效率 有效解决 上表面 下表面 限位柱 凹面 位槽 吸附 下凹 替代
【权利要求书】:

1.一种抛光用的凹模板,其特征在于:主要由高分子合成材料一体成型的模板(1),所述模板(1)表面光滑,模板(1)的上表面具有凹面(11),凹面(11)的四周均设有限位槽(2),凹面(11)上均匀分布有若干负压槽位(12),模板(1)下表面设有若干限位柱(3)。

2.根据权利要求1所述的一种抛光用的凹模板,其特征在于:所述限位槽(2)朝模板内部方向水平延伸,且限位槽(2)端部为弧形。

3.根据权利要求1所述的一种抛光用的凹模板,其特征在于:所述负压槽位(12)呈弧形下凹。

4.根据权利要求1或3所述的一种抛光用的凹模板,其特征在于:所述负压槽位(12)的数量为6个。

5.根据权利要求1所述的一种抛光用的凹模板,其特征在于:所述限位柱(3)的数量为4个。

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