[实用新型]一种抛光用的凹模板有效

专利信息
申请号: 201721660461.7 申请日: 2017-12-02
公开(公告)号: CN207900922U 公开(公告)日: 2018-09-25
发明(设计)人: 田晓龙;郑扬真;郑永强;李洋;周亚南;魏运涛 申请(专利权)人: 广东轻工机械二厂有限公司
主分类号: B24B41/06 分类号: B24B41/06
代理公司: 汕头市南粤专利商标事务所(特殊普通合伙) 44301 代理人: 吴旭强
地址: 515000 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高分子合成材料 本实用新型 抛光 凹模板 负压槽 限位槽 传统抛光设备 真空吸附系统 一体成型的 工件装卸 内部方向 设备故障 生产效率 有效解决 上表面 下表面 限位柱 凹面 位槽 吸附 下凹 替代
【说明书】:

本实用新型提供一种抛光用的凹模板,主要由高分子合成材料一体成型的模板,所述模板的上表面具有凹面,凹面的四周均设有限位槽,限位槽朝模板内部方向水平延伸,且限位槽端部为弧形;凹面上均匀分布有若干负压槽位,负压槽位呈弧形下凹;模板下表面设有若干限位柱。本实用新型利用高分子合成材料与表面光滑的工件形成自吸附模式,替代了传统抛光设备所采用的真空吸附系统,有效解决工件装卸困难,设备故障多等问题,提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及工件抛光设备用具,特指一种抛光用的凹模板。

背景技术

现有技术中,抛光设备在对玻璃、金属等表面光滑的工件进行抛光时,通常需要在抛光机中配置真空吸附系统,通过真空吸附系统将装配在模板上的工件进行吸附固定,以便对工件进行有效抛光。目前,装配工件的模板为硬性材质的模板,主要起对工件的限位作用,通过真空吸附系统将工件吸附在模板表面,这种方式容易导致装卸工件困难,且在抛光过程中,无法避免真空吸附系统吸入抛光磨液导致设备故障,加速老化等问题发生。

发明内容

本实用新型的目的在于针对已有的技术现状,提供一种抛光用的凹模板,以使表面光滑的工件可以与模板贴合吸附,在无需真空吸附系统的条件下完成抛光工序。

为达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案:

本实用新型为一种抛光用的凹模板,主要由高分子合成材料一体成型的模板,所述模板表面光滑,模板的上表面具有凹面,凹面的四周均设有限位槽,凹面上均匀分布有若干负压槽位,模板下表面设有若干限位柱。

上述方案中,限位槽朝模板内部方向水平延伸,且限位槽端部为弧形。

进一步的,负压槽位呈弧形下凹。

优选的,负压槽位的数量为6个。

优选的,限位柱的数量为4个。

上述方案中,模板的高分子合成材料为丁腈橡胶、硅橡胶、抗老化剂合成,所制成的模板具有光滑表面,且具有适度的硬度及弹性特征。

本实用新型的有益效果为:本实用新型利用高分子合成材料所制成的模板,具有光滑表面、适度的硬度及弹性特征,与光滑表面的工件(如玻璃、金属等)可形成全方位贴合、排除空气,且模板中的负压槽位还对工件形成微负压,使两者贴合牢固;其凹面适合于表面上凸的工件契合,结合限位槽对工件进行横向限位,保证抛光过程中工件一直处于相对稳定的状态。本实用新型替代了传统抛光设备所采用的真空吸附系统,有效解决工件装卸困难,设备故障多等问题,提高生产效率,降低成本。

附图说明:

附图1为本实用新型的俯视图;

附图2为本实用新型的侧面剖视图;

附图3为附图2中A部的局部放大图。

具体实施方式:

请参阅图1所示,系为本实用新型之较佳实施例的结构示意图,本实用新型为一种抛光用的凹模板,主要由高分子合成材料一体成型的模板1,所述模板1表面光滑,模板1的上表面具有凹面11,有利于与表面上凸的工件契合,而由于光滑面吸附容易产生横向位移,凹面11的四周均设有限位槽2可对工件的横向位移进行有效限制,具体的,限位槽2朝模板内部方向水平延伸,且限位槽2端部为弧形,使工件边缘可以顺利滑入限位槽2中,便于安装,同时拆卸时,掰开限位槽2可顺利取出工件。

凹面11上均匀分布有若干负压槽位12,负压槽位12呈弧形下凹,可在工件与凹面11贴合后对工件的下表面形成微负压,使工件紧紧贴合于凹面11上,作为优选的,负压槽位12的数量为6个。

模板1下表面设有若干限位柱3,通过限位柱3可与抛光设备上的旋转底座进行有效装配,作为优选的,限位柱3的数量为4个。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东轻工机械二厂有限公司,未经广东轻工机械二厂有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721660461.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top