[实用新型]多弧离子真空镀膜机

权利要求书

1.一种多弧离子真空镀膜机，其特征在于：包括：

腔室，所述腔室内设有旋转架组件，所述旋转架组件上安装有工作台，所述旋转架组件用于带动所述工作台在所述腔室内转动，所述工作台用于安装工件；

抽真空系统，所述抽真空系统与所述腔室连接；以及

多弧靶组件，所述多弧靶组件包括若干个阴极多弧靶座，每个所述阴极多弧靶座上设有一永磁铁，每个所述阴极多弧靶座的内端通过一直管磁场叠加装置与所述腔室密封连接，且所述阴极多弧靶座的内端连接有套设于所述直管磁场叠加装置内的靶材座，所述靶材座用于安装靶材，每个所述阴极多弧靶座上均设有一引弧装置，所述引弧装置的引弧针能够接触靶材，所述直管磁场叠加装置能够在靶材所在空间产生变化磁场。

2.根据权利要求1所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：所述直管磁场叠加装置包括直管和导电螺线圈，所述直管套设于所述靶材座外且所述直管的一端与所述阴极多弧靶座密封连接，所述直管的另一端与所述腔室密封连接，所述导电螺线管套设在所述直管外。

3.根据权利要求1所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：所述旋转架组件包括转盘轴、转盘、第一大齿轮和第一小齿轮，所述转盘同轴固定连接于所述转盘轴上，所述第一大齿轮同轴套设于所述转盘轴上并周向固定连接于所述腔室的底面上，所述第一大齿轮啮合有若干个所述第一小齿轮，各所述第一小齿轮均固定连接有一个工件安装杆，各且所述工件安装杆均向上穿过所述转盘，各所述工件安装杆位于所述转盘上方的部分固定连接有一个所述工作台，所述旋转架组件由一旋转驱动组件驱动。

4.根据权利要求3所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：所述转盘上对应于每个所述工件安装杆均设有一个拨杆，各所述工件安装杆上同轴活动套设有一个第二大齿轮，各所述第二大齿轮的一端伸出所述工作台并通过一连接杆与所述拨杆固定连接；各所述工作台上均固定连接有一小齿轮轴，所述小齿轮轴外活动套设有一第二小齿轮，所述第二小齿轮与所述第二大齿轮啮合，所述第二小齿轮用于安装工件；

所述工作台上方设有一工作台盖板，所述工件安装杆穿过所述工作台盖板，且所述第二小齿轮上端伸出所述工作台盖板以安装工件。

5.根据权利要求3或4所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：所述旋转驱动组件包括第一电机、带轮传动组和第一磁流体密封装置，所述第一电机的输出轴通过带轮传动组与所述第一磁流体密封装置的输入轴连接，所述第一磁流体密封装置的输出轴与所述转盘轴固定连接，所述第一磁流体密封装置密封连接于所述腔室的底面上；所述腔室内设置有多根加热棒，所述加热棒的顶端固定连接于所述旋转架组件外围的所述腔室的顶面上，所述腔室内在所述加热棒之间设置有若干个热电偶。

6.根据权利要求3所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：所述第一大齿轮沿周向设置有若干个旋转架固定支撑件，各所述旋转架固定支撑件的下端均与所述腔室的底面周向固定连接。

7.根据权利要求1或3所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：还包括靶挡板组件，所述靶挡板组件包括第二电机、第二磁流体密封装置和挡板，所述第二电机的输出轴与所述第二磁流体密封装置的输入轴连接，所述第二磁流体密封装置的输出轴通过一挡板连接件与所述挡板连接，所述挡板为弧面挡板且位于所述腔室侧壁与所述旋转架组件之间，所述第二磁流体密封装置密封连接于所述腔室的顶面上。

8.根据权利要求1所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：所述抽真空系统包括低真空泵和高真空泵，所述低真空泵通过一旁路阀与所述腔室连接，所述高真空泵一端通过一前级阀与所述低真空泵连接，所述高真空泵的另一端依次通过气动插板阀和限流阀组件与所述腔室连接。

9.根据权利要求4所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：所述转盘上方设有一转盘盖板，各所述拨杆下端均穿过所述转盘盖板与所述转盘连接，各所述工件安装杆下端均依次穿过所述转盘盖板和所述转盘并与其对应的所述第一小齿轮连接。

10.根据权利要求4所述的多弧离子真空镀膜机，其特征在于：所述旋转架组件还包括一旋转架盖板，各所述拨杆上端均与所述旋转架盖板螺纹连接，且各所述工件安装杆的上端均活动穿设于所述旋转架盖板上。