[实用新型]集成电路紫外正性光刻胶的生产装置有效
| 申请号： | 201721747467.8 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN207529107U | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 廖如佴 | 申请（专利权）人： | 成都斯伯里科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610041 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 压滤机 紫外正性光刻胶 生产装置 干燥器 聚合釜 酯化釜 配胶 集成电路 脱酚塔 脱水 | ||
【权利要求书】：
1.集成电路紫外正性光刻胶的生产装置，其特征在于，主要包括：聚合釜(D101)、脱水脱酚塔(E101)、酯化釜(D102)、压滤机(L101)、干燥器(L102)、配胶釜(D103)、压滤机(L103)、百级超净间(L104)，其中，压滤机(L101)分别与酯化釜(D102)、干燥器(L102)相连接，压滤机(L103)分别与配胶釜(D103)、百级超净间(L104)相连接，其中，聚合釜(D101)公称容积700-750L。
2.根据权利要求1所述集成电路紫外正性光刻胶的生产装置，其特征在于，所述的酯化釜(D102)内锅直径600-630mm。
3.根据权利要求1所述集成电路紫外正性光刻胶的生产装置，其特征在于，所述的百级超净间(L104)滤膜孔径0.15-0.16μm。
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