[实用新型]等离子割炬的两点支架有效
| 申请号： | 201721756670.1 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN207710068U | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 李恩佐;何少波;王晓丽;陈昊 | 申请（专利权）人： | 上海亿诺焊接科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K10/00 | 分类号： | B23K10/00 |
| 代理公司： | 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 | 代理人： | 顾雯 |
| 地址： | 201611 上海市松江区车阳*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 支架 等离子割炬 排放通道 内表面 引弧 远端 切割 本实用新型 弧形结构 离子割炬 喷嘴 保护帽 恒定的 外压力 短路 滑动 负压 弧型 近端 枪头 铁渣 成功率 连通 均衡 体内 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于等离子割炬的两点支架，其特征在于：包括：
主体，所述主体具有内表面、外表面、近端、远端弧形结构，以及至少一个排放通道，所述排放通道连通所述内表面和所述外表面；所述远端弧形结构的尺寸做成使等离子割炬的引弧距离始终是一个恒定的尺寸。
2.如权利要求1所述的用于等离子割炬的两点支架，其特征在于，所述内表面是一个开放的腔体，所述腔体的尺寸做成能够收纳用于等离子割炬的电极的至少一部分。
3.如权利要求1所述的用于等离子割炬的两点支架，其特征在于，所述外表面的尺寸做成能够被用于等离子割炬的枪头保护帽所收纳。
4.如权利要求1所述的用于等离子割炬的两点支架，其特征在于，所述近端被等离子割炬的外喷嘴和等离子割炬的枪头保护帽所压紧。
5.如权利要求1所述的用于等离子割炬的两点支架，其特征在于，所述至少一个排放通道是排放孔。
6.如权利要求5所述的用于等离子割炬的两点支架，其特征在于，所述排放孔为圆孔或者菱形孔。
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